基本信息:
- 专利标题： 覆盖量测方法
- 专利标题（英）：Overlay Metrology Method
- 申请号：CN201711066881.7 申请日：2017-10-20
- 公开(公告)号：CN108226760A 公开(公告)日：2018-06-29
- 发明人： 吴锴 , 谢鸿志 , 陈开雄 , 柯志明 , 陈彦良
- 申请人： 台湾积体电路制造股份有限公司
- 申请人地址： 中国台湾新竹市
- 专利权人： 台湾积体电路制造股份有限公司
- 当前专利权人： 台湾积体电路制造股份有限公司
- 当前专利权人地址： 中国台湾新竹市
- 代理机构： 隆天知识产权代理有限公司
- 代理人： 李昕巍; 章侃铱
- 优先权： 62/434,905 20161215 US 15/623,665 20170615 US
- 主分类号： G01R31/311
- IPC分类号： G01R31/311
摘要：
一种覆盖量测方法，包括：利用多彩光束照亮覆盖目标；搜集与由多彩光束通过覆盖目标而产生的衍射光谱有关的强度信息，其中衍射光谱将多彩光束分离为多个衍射光束，衍射光束的每一者分别对应至多彩光束的一波长；以及根据与衍射光谱有关的强度信息产生覆盖信息，覆盖信息包括因不对称性而产生的覆盖误差。
摘要（英）：
An overlay metrology method includes illuminating an overlay grating target with a polychromatic beam and collecting intensity information associated with a diffraction spectrum produced by the overlay grating target from the polychromatic beam. The diffraction spectrum separates the polychromatic beam into a plurality of diffracted beams, each of the plurality of diffracted beams corresponding with a respective wavelength of the polychromatic beam. The method further includes generating overlay information from the collected intensity information associated with the diffraction spectrum, wherein the overlay information includes contributions from asymmetry-induced overlay error.
公开/授权文献:
- CN108226760B 覆盖量测方法及其系统 公开/授权日：2022-04-01
IPC结构图谱:
| G | 物理 |
| --G01 | 测量；测试 |
| ----G01R | 测量电变量；测量磁变量（通过转换成电变量对任何种类的物理变量进行测量参见G01类名下的 |
| ------G01R31/00 | 电性能的测试装置；电故障的探测装置；以所进行的测试在其他位置未提供为特征的电测试装置 |
| --------G01R31/02 | .对电设备、线路或元件进行短路、断路、泄漏或不正确连接的测试 |
| ----------G01R31/302 | ..无触点测试 |
| ------------G01R31/305 | ...采用电子束 |
| --------------G01R31/311 | ....集成电路的 |