基本信息:
- 专利标题： 掩膜板及其制备方法
- 申请号：CN201810002630.0 申请日：2018-01-02
- 公开(公告)号：CN108193191A 公开(公告)日：2018-06-22
- 发明人： 齐忠胜 , 李杰威 , 殷川 , 熊先江 , 毛波
- 申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 合肥鑫晟光电科技有限公司
- 申请人地址： 北京市朝阳区酒仙桥路10号
- 专利权人： 京东方科技集团股份有限公司,合肥鑫晟光电科技有限公司
- 当前专利权人： 京东方科技集团股份有限公司,合肥鑫晟光电科技有限公司
- 当前专利权人地址： 北京市朝阳区酒仙桥路10号
- 代理机构： 北京清亦华知识产权代理事务所
- 代理人： 赵天月
- 主分类号： C23C16/04
- IPC分类号： C23C16/04 ; C23C18/36 ; C09D127/18 ; C09D161/16 ; C09D181/02 ; C09D7/61
摘要：
本发明提供了掩膜板及其制备方法。该掩膜板包括：掩膜板母板；保护层，保护层设置于掩膜板母板的至少一个表面上，保护层用于保护掩膜板母板和/或与掩膜板直接接触的衬底不受损伤。由此，通过设置保护层可以使得掩膜板具有较小的表面粗糙度，可以避免与掩膜板直接接触的衬底被刮伤；保护层还可以避免掩膜板母板静电的释放，以免造成对上述衬底的烧伤以及改善掩膜板边缘处薄膜厚度不均匀的现象；还可以提高掩膜板的抗腐蚀性，延长掩膜板的使用寿命。
公开/授权文献:
- CN108193191B 掩膜板及其制备方法 公开/授权日：2021-10-26