基本信息:
- 专利标题： 通过考虑局部布局效应来设计集成电路的系统和方法
- 申请号：CN201710628517.9 申请日：2017-07-28
- 公开(公告)号：CN107665268B 公开(公告)日：2023-10-31
- 发明人： 河罗野 , 金容德 , 李奉炫 , 金亨沃 , 郑光钰 , 金载勋
- 申请人： 三星电子株式会社
- 申请人地址： 韩国京畿道
- 专利权人： 三星电子株式会社
- 当前专利权人： 三星电子株式会社
- 当前专利权人地址： 韩国京畿道
- 代理机构： 北京市柳沈律师事务所
- 代理人： 蔡军红; 邵亚丽
- 主分类号： G06F30/392
- IPC分类号： G06F30/392
摘要：
提供了通过考虑局部布局效应来设计集成电路(IC)的系统和方法。设计IC的方法可以放置预放置单元的实例以便减少局部布局效应(LLE)引起结构的发生。该方法可以从放置的每个实例的外围布局中提取实例的环境以估计实例的LLE，由此分析IC的性能。
公开/授权文献:
- CN107665268A 通过考虑局部布局效应来设计集成电路的系统和方法 公开/授权日：2018-02-06
IPC结构图谱:
| G06F30/392 | 平面规划或布局，例如,分区或放置 |