基本信息:
- 专利标题： 相位差板及相位差板的制造方法
- 申请号：CN201680011894.1 申请日：2016-02-18
- 公开(公告)号：CN107430229B 公开(公告)日：2020-11-03
- 发明人： 波多野拓 , 合田和矢
- 申请人： 日本瑞翁株式会社
- 申请人地址： 日本东京
- 专利权人： 日本瑞翁株式会社
- 当前专利权人： 日本瑞翁株式会社
- 当前专利权人地址： 日本东京
- 代理机构： 北京柏杉松知识产权代理事务所
- 代理人： 赵曦; 刘继富
- 优先权： 2015-041334 2015.03.03 JP
- 国际申请： PCT/JP2016/054759 2016.02.18
- 国际公布： WO2016/140077 JA 2016.09.09
- 进入国家日期： 2017-08-24
- 主分类号： G02B5/30
- IPC分类号： G02B5/30 ; B32B27/00 ; B32B27/08 ; G02F1/13363 ; B29C48/18 ; B29C48/21 ; B32B27/30 ; H01L51/50 ; B32B27/32 ; B29C55/00 ; B29C55/04 ; B32B7/02
摘要：
本发明涉及一种相位差板及其制造方法，上述相位差板具有第一层和第二层，上述第一层由固有双折射值为正的树脂形成且具有双折射，上述第二层由固有双折射值为负的树脂形成且具有双折射，上述相位差板的波长450nm的延迟Re(450)、波长550nm的延迟Re(550)、以及厚度d满足式(I)Re(450)/Re(550) 0.0035。
公开/授权文献:
- CN107430229A 相位差板及相位差板的制造方法 公开/授权日：2017-12-01