基本信息:
- 专利标题： 光学系统的组合件，特别是微光刻投射曝光设备的组合件
- 专利标题（英）：Assembly of optical system, in particular of microlithographic projection exposure apparatus
- 申请号：CN201680018673.7 申请日：2016-02-15
- 公开(公告)号：CN107407891A 公开(公告)日：2017-11-28
- 发明人： J.霍恩 , B.西格尔 , B.克瑙夫 , S.克朗 , J.施佩希特 , M.霍尔兹 , S.布莱迪斯特尔 , F.巴特 , M.索莱曼
- 申请人： 卡尔蔡司SMT有限责任公司
- 申请人地址： 德国上科亨
- 专利权人： 卡尔蔡司SMT有限责任公司
- 当前专利权人： 卡尔蔡司SMT有限责任公司
- 当前专利权人地址： 德国上科亨
- 代理机构： 北京市柳沈律师事务所
- 代理人： 王蕊瑞
- 优先权： 102015202800.3 2015.02.17 DE
- 国际申请： PCT/EP2016/053139 2016.02.15
- 国际公布： WO2016/131758 DE 2016.08.25
- 进入国家日期： 2017-09-26
- 主分类号： G03F7/20
- IPC分类号： G03F7/20
The invention relates to an assembly of an optical system, in particular of a microlithographic projection exposure apparatus, said assembly comprising a mirror arrangement (110, 210, 310, 410) which has a plurality of mirror elements (110a, 110b, 210a, 210b, 310a, 310b, 410a, 410b) that can be adjusted independently of each other, and comprising a data and voltage generation unit (120, 220, 320, 420) which generates control data and a supply voltage for controlling an adjustment of each mirror element, wherein the assembly is designed to transmit the control data and/or the supply current from the data and voltage generation unit (120, 220, 320, 420) to the mirror elements (110a, 110b, 210a, 210b, 310a, 310b, 410a, 410b) in an electrically isolated manner.