基本信息:
- 专利标题： 用于改善嵌段共聚物的有序膜的关键尺寸均匀性的方法
- 专利标题（英）：Method for improving the critical dimension uniformity of ordered films of block copolymers
- 申请号：CN201680017108.9 申请日：2016-01-21
- 公开(公告)号：CN107406660A 公开(公告)日：2017-11-28
- 发明人： C.纳瓦罗 , C.尼科利特 , R.伊努布利 , X.舍瓦利耶
- 申请人： 阿科玛法国公司
- 申请人地址： 法国科隆布
- 专利权人： 阿科玛法国公司
- 当前专利权人： 阿科玛法国公司
- 当前专利权人地址： 法国科隆布
- 代理机构： 北京市柳沈律师事务所
- 代理人： 杨艳
- 优先权： 1550466 2015.01.21 FR
- 国际申请： PCT/FR2016/050113 2016.01.21
- 国际公布： WO2016/116705 FR 2016.07.28
- 进入国家日期： 2017-09-20
- 主分类号： C08L53/00
- IPC分类号： C08L53/00 ; G03F7/004 ; C08J5/18 ; C09D153/00 ; C08F212/08 ; C08F220/14 ; C08F297/02 ; G03F1/68
摘要：
本发明涉及用于在纳米尺度上控制嵌段共聚物的有序膜的关键尺寸均匀性的方法。本发明还涉及用于控制嵌段共聚物的有序膜的关键尺寸均匀性的组合物，和涉及由此获得的有序膜，所述有序膜特别地可用作光刻领域中的掩模。
摘要（英）：
The invention relates to a method for monitoring the critical dimension uniformity of ordered films of block copolymers on the nanometric scale. The invention also relates to the compositions used to monitor the critical dimension uniformity of ordered films of block copolymers and the ordered films thus obtained, which can be used in particular as masks in the field of lithography.
IPC结构图谱:
| C | 化学；冶金 |
| --C08 | 有机高分子化合物；其制备或化学加工；以其为基料的组合物 |
| ----C08L | 高分子化合物的组合物 |
| ------C08L53/00 | 嵌段共聚物的组合物，该共聚物至少有1个聚合物链区是仅由碳-碳不饱和键反应得到的；此种聚合物衍生物的组合物 |