基本信息:
- 专利标题： 用于定向自组装图案化中的通孔形成的缺陷减少方法和组合物
- 专利标题（英）：Defect reduction methods and composition for via formation in directed self-assembly patterning
- 申请号：CN201580058373.7 申请日：2015-10-28
- 公开(公告)号：CN107074532A 公开(公告)日：2017-08-18
- 发明人： 洪圣恩 , 松本直树 , 秋山靖 , 黑泽和则 , 宫崎真治 , 林观阳
- 申请人： AZ电子材料卢森堡有限公司
- 申请人地址： 卢森堡卢森堡
- 专利权人： AZ电子材料卢森堡有限公司
- 当前专利权人： AZ电子材料卢森堡有限公司
- 当前专利权人地址： 卢森堡卢森堡
- 代理机构： 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所
- 代理人： 王长青
- 优先权： 14/527,962 20141030 US
- 国际申请： PCT/EP2015/074993 2015.10.28
- 国际公布： WO2016/066691 EN 2016.05.06
- 进入国家日期： 2017-04-25
- 主分类号： B81C1/00
- IPC分类号： B81C1/00
摘要：
本发明涉及两种新型方法：“双涂布方法和单涂布方法”，所述方法通过在制图外延法中使用柱阵列从而形成通孔阵列，其中通过在柱的表面上形成疏水性聚(乙烯基芳基)刷从而对柱的表面进行改性。本发明还涉及组合物，所述组合物包含一个链端被反应性官能团封端的聚(乙烯基芳基)疏水性聚合物刷前体、具有抗蚀刻性疏水性嵌段和高度蚀刻性亲水性嵌段的二嵌段共聚物、热产酸剂和溶剂。
摘要（英）：
The present invention relates to a two novel processes, "Dual Coating Process and Single Coating Process," for forming an array of via's by employing a graphoepitaxy approach, where an array of pillars the surface of the pillars has been modified by the formation of a hydrophobic poly(vinyl aryl) brush at the surface of the pillars. The present invention also relates to a composition comprising a poly(vinyl aryl) hydrophopic polymer brush precursor terminated at one chain end with a reactive functional group, a diblock copolymer comprising an etch resistant hydrophobic block and a highly etchable hydrophilic block, a thermal acid generator and a solvent.
IPC结构图谱:
| B | 作业；运输 |
| --B81 | 微观结构技术 |
| ----B81C | 专门适用于制造或处理微观结构的装置或系统的方法或设备 |
| ------B81C1/00 | 在基片内或其上制造或处理的装置或系统 |