基本信息:
- 专利标题： 光刻设备和曝光方法
- 申请号：CN201580030769.0 申请日：2015-05-13
- 公开(公告)号：CN106462089B 公开(公告)日：2018-05-29
- 发明人： P·J·克拉默 , R·吉利贾姆塞 , N·拉默斯 , D·M·斯洛特布姆
- 申请人： ASML荷兰有限公司
- 申请人地址： 荷兰维德霍温
- 专利权人： ASML荷兰有限公司
- 当前专利权人： ASML荷兰有限公司
- 当前专利权人地址： 荷兰维德霍温
- 代理机构： 北京市金杜律师事务所
- 代理人： 王茂华
- 优先权： 14172053.2 2014.06.12 EP
- 国际申请： PCT/EP2015/060537 2015.05.13
- 国际公布： WO2015/189001 EN 2015.12.17
- 进入国家日期： 2016-12-08
- 主分类号： G03F9/00
- IPC分类号： G03F9/00
A method including determining a position of a first pattern in each of a plurality of target portions on a substrate, based on a fitted mathematical model, wherein the first pattern includes at least one alignment mark, wherein the mathematical model is fitted to a plurality of alignment mark displacements (dx, dy) for the alignment marks in the target portions, and wherein the alignment mark displacements are a difference between a respective nominal position of the alignment mark and measured position of the alignment mark; and transferring a second pattern onto each of the target portions, using the determined position of the first pattern in each of the plurality of target portions, wherein the mathematical model includes polynomials Z1 and Z2: Z1=r2 cos(2θ) and Z2=r2 sin(2θ) in polar coordinates (r, θ) or Z1=x2−y2 and Z2=xy in Cartesian coordinates (x, y).
公开/授权文献:
- CN106462089A 光刻设备和曝光方法 公开/授权日：2017-02-22