基本信息:
- 专利标题： 自含有α氨基酸和双环氧化物的反应产物的铜电镀浴电镀光致抗蚀剂限定的特征的方法
- 申请号：CN201610619284.1 申请日：2016-07-29
- 公开(公告)号：CN106435661B 公开(公告)日：2019-02-19
- 发明人： M·托尔塞斯 , Z·尼亚齐姆贝托瓦 , Y·秦 , J·沃尔特英克 , J·狄茨维斯泽柯 , E·爱丁顿 , M·列斐伏尔
- 申请人： 罗门哈斯电子材料有限责任公司 , 陶氏环球技术有限责任公司
- 申请人地址： 美国马萨诸塞州
- 专利权人： 罗门哈斯电子材料有限责任公司,陶氏环球技术有限责任公司
- 当前专利权人： 罗门哈斯电子材料有限责任公司,陶氏环球技术有限责任公司
- 当前专利权人地址： 美国马萨诸塞州
- 代理机构： 上海专利商标事务所有限公司
- 代理人： 陈哲锋; 胡嘉倩
- 优先权： 62/201860 2015.08.06 US
- 主分类号： C25D3/38
- IPC分类号： C25D3/38
摘要：
电镀方法能够镀覆具有基本上均匀形态的光致抗蚀剂限定的特征。所述电镀方法包括具有α‑氨基酸和双环氧化物的反应产物的铜电镀浴以电镀所述光致抗蚀剂限定的特征。此类特征包括柱、接合垫和线空间特征。
公开/授权文献:
- CN106435661A 自含有α氨基酸和双环氧化物的反应产物的铜电镀浴电镀光致抗蚀剂限定的特征的方法 公开/授权日：2017-02-22