基本信息:
- 专利标题： 稠密特征的热点的减少
- 专利标题（英）：REDUCTION OF HOTSPOTS OF DENSE FEATURES
- 申请号：CN201580022370.8 申请日：2015-04-08
- 公开(公告)号：CN106255925A 公开(公告)日：2016-12-21
- 发明人： 曾世恩
- 申请人： ASML荷兰有限公司
- 申请人地址： 荷兰维德霍温
- 专利权人： ASML荷兰有限公司
- 当前专利权人： ASML荷兰有限公司
- 当前专利权人地址： 荷兰维德霍温
- 代理机构： 中科专利商标代理有限责任公司
- 代理人： 吴敬莲
- 优先权： 61/988,029 2014.05.02 US
- 国际申请： PCT/EP2015/057573 2015.04.08
- 国际公布： WO2015/165699 EN 2015.11.05
- 进入国家日期： 2016-11-02
- 主分类号： G03F7/20
- IPC分类号： G03F7/20
A computer-implemented method to adjust line-width roughness (LWR) in a lithographic apparatus, the method including receiving a value of LWR and/or image log slope (ILS) for each feature of a plurality of different features of a pattern to be imaged, using a patterning device, onto a substrate in a lithographic process, and evaluating a cost function comprising a lithographic parameter and the values of LWR and/or ILS to determine a value of the lithographic parameter that (i) reduces a bias between the LWR and/or ILS of the different features, or (ii) reduces a difference in the LWR and/or ILS of the different features between different lithographic apparatuses, or (iii) reduces a difference in the LWR and/or ILS of the different features between different patterning devices, or (iv) any combination selected from (i)-(iii).
公开/授权文献:
- CN106255925B 稠密特征的热点的减少 公开/授权日：2019-03-15