基本信息:
- 专利标题： 通过真空等离子体在工件表面快速沉积的增材制造系统
- 申请号：CN201610408276.2 申请日：2016-06-09
- 公开(公告)号：CN105970160B 公开(公告)日：2019-02-05
- 发明人： 董小虹 , 王桂茂 , 区名结
- 申请人： 广东世创金属科技股份有限公司
- 申请人地址： 广东省佛山市顺德区陈村镇石洲工业区32号
- 专利权人： 广东世创金属科技股份有限公司
- 当前专利权人： 广东世创金属科技股份有限公司
- 当前专利权人地址： 广东省佛山市顺德区陈村镇石洲工业区32号
- 代理机构： 广州广信知识产权代理有限公司
- 代理人： 张文雄
- 主分类号： C23C14/32
- IPC分类号： C23C14/32 ; C23C14/56 ; C23C14/54 ; B33Y10/00 ; B33Y30/00
摘要：
本发明涉及一种通过真空等离子体在工件表面快速沉积的增材制造系统，包括真空获得及测量装置和真空室，在真空室的侧壁安装有多个侧壁阴极靶对，其特征在于：在真空室的中心位置安装一个柱状阴极靶和旋转式支承机构，柱状阴极靶通过连接大功率弧电源、以输出大电流，柱状阴极靶的电源输入端连接PLC控制系统的输出端，通过PLC控制系统反复进行正负极输入切换改变作用在柱状阴极靶靶面的电磁场方向，使处于靶面的弧斑沿着靶面作向上螺旋运动，从一端往另一端转移，并形成弧斑在柱状阴极靶的靶面作反复螺旋转移运动，形成工件表面快速循环沉积结构，使工件表面最终快速的获得厚涂层。本发明具有工件表面的涂层沉积效率高等有益效果。
公开/授权文献:
- CN105970160A 通过真空等离子体在工件表面快速沉积的增材制造系统 公开/授权日：2016-09-28