
基本信息:
- 专利标题: 一种光固化材料及其应用
- 申请号:CN201610149725.6 申请日:2016-03-16
- 公开(公告)号:CN105601830B 公开(公告)日:2018-10-02
- 发明人: 何流 , 裴学良 , 季鹏 , 苗玉龙 , 杨建行 , 黄庆
- 申请人: 中国科学院宁波材料技术与工程研究所
- 申请人地址: 浙江省宁波市镇海区庄市大道519号
- 专利权人: 中国科学院宁波材料技术与工程研究所
- 当前专利权人: 中国科学院宁波材料技术与工程研究所
- 当前专利权人地址: 浙江省宁波市镇海区庄市大道519号
- 代理机构: 杭州天勤知识产权代理有限公司
- 代理人: 刘诚午
- 优先权: 201610011185.5 2016.01.07 CN
- 主分类号: C08F283/00
- IPC分类号: C08F283/00 ; C08F222/20 ; C08G77/60 ; C09D183/16 ; C09D7/61 ; C09D7/65 ; C04B35/565 ; C04B35/622
摘要:
本发明涉及一种光固化材料,包括如下组分:超支化聚碳硅烷60‑98wt%;活性稀释剂0‑35wt%;光引发剂0.1‑8wt%;添加剂0‑10wt%;超支化聚碳硅烷是含不饱和双键的超支化聚碳硅烷,超支化聚碳硅烷的数均分子量介于300‑15000;不饱和双键为丙烯酰氧基、甲基丙烯酰氧基、乙烯基或烯丙基,超支化聚碳硅烷中不饱和双键的含量为1‑30wt%。本发明还涉及光固化材料用于光固化3D打印的应用以及制备SiC构件的应用。本发明所述的光固化材料黏度较低,便于从3D打印设备的喷头中喷射出来,并且固化速度快,固化时收缩率很小。
公开/授权文献:
- CN105601830A 一种光固化材料及其应用 公开/授权日:2016-05-25
IPC结构图谱:
C | 化学;冶金 |
--C08 | 有机高分子化合物;其制备或化学加工;以其为基料的组合物 |
----C08F | 仅用碳—碳不饱和键反应得到的高分子化合物 |
------C08F283/00 | 由单体接到C08G小类所包括的聚合物上聚合而得到的高分子化合物 |