基本信息:
- 专利标题： 彩膜基板及其制作方法、显示装置
- 申请号：CN201510959626.X 申请日：2015-12-21
- 公开(公告)号：CN105388661B 公开(公告)日：2019-01-04
- 发明人： 张治超 , 郭总杰 , 刘正 , 刘明悬 , 王守坤 , 姜晶晶
- 申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 北京京东方显示技术有限公司
- 申请人地址： 北京市朝阳区酒仙桥路10号
- 专利权人： 京东方科技集团股份有限公司,北京京东方显示技术有限公司
- 当前专利权人： 京东方科技集团股份有限公司,北京京东方显示技术有限公司
- 当前专利权人地址： 北京市朝阳区酒仙桥路10号
- 代理机构： 中国专利代理(香港)有限公司
- 代理人： 江鹏飞; 景军平
- 主分类号： G02F1/1335
- IPC分类号： G02F1/1335
摘要：
本发明的实施例提供了一种彩膜基板及其制作方法、显示装置。所述彩膜基板包括：衬底基板、形成在衬底基板上的至少一种颜色的多个彩色滤光片、以及形成在衬底基板上的黑矩阵；所述黑矩阵具有多个开口，所述多个开口与所述至少一种颜色的多个彩色滤光片一一对应；其中，在垂直于所述衬底基板的横截面中：所述彩色滤光片的边缘与所述黑矩阵的开口边缘具有交叠区域。根据本发明的实施例提供的彩膜基板及其制作方法、显示装置，可以通过使用半色调掩模板技术以及正负性光刻胶技术，利用一个滤光片掩模板来形成至少一种颜色的多个彩色滤光片的图形以及黑矩阵图形；为彩膜工艺节省了一张黑矩阵掩模板，从而大大节省了生产成本。
公开/授权文献:
- CN105388661A 彩膜基板及其制作方法、显示装置 公开/授权日：2016-03-09
IPC结构图谱:
| G | 物理 |
| --G02 | 光学 |
| ----G02F | 用于控制光的强度、颜色、相位、偏振或方向的器件或装置，例如转换、选通、调制或解调，上述器件或装置的光学操作是通过改变器件或装置的介质的光学性质来修改的；用于上述操作的技术或工艺；变频；非线性光学；光学逻辑元件；光学模拟/数字转换器 |
| ------G02F1/00 | 控制来自独立光源的光的强度、颜色、相位、偏振或方向的器件或装置，例如，转换、选通或调制；非线性光学 |
| --------G02F1/01 | .对强度、相位、偏振或颜色的控制 |
| ----------G02F1/09 | ..基于磁—光元件的，例如，呈现法拉第效应的 |
| ------------G02F1/133 | ...构造上的设备；液晶单元的工作；电路装置 |
| --------------G02F1/1333 | ....构造上的设备 |
| ----------------G02F1/1335 | .....与液晶单元结构相连的光学装置，例如偏振器、反射器 |