基本信息:
- 专利标题： 光加工模型的造型材料、光加工模型形状的支持材料和光加工模型的制造方法
- 申请号：CN201510463347.4 申请日：2011-10-17
- 公开(公告)号：CN105111380B 公开(公告)日：2018-10-16
- 发明人： 铃木秀行 , 中山雅敏
- 申请人： 株式会社其恩斯
- 申请人地址： 日本大阪府
- 专利权人： 株式会社其恩斯
- 当前专利权人： 株式会社其恩斯
- 当前专利权人地址： 日本大阪府
- 代理机构： 北京天昊联合知识产权代理有限公司
- 代理人： 常海涛; 高钊
- 优先权： 2010-244909 2010.11.01 JP
- 主分类号： C08F283/00
- IPC分类号： C08F283/00 ; C08F220/18 ; C08F222/20 ; C08F2/48 ; B29C64/112 ; B33Y70/00 ; B33Y30/00 ; B33Y10/00
摘要：
为了提供：用于通过喷墨光成形方法形成光成形制品的造型材料，所述造型材料在光固化期间或之后几乎不会发生因吸水或吸湿所致的溶胀或者几乎不会发生因吸湿所致的变形；和在通过喷墨光成形方法形成光成形制品期间用于支持形状的支持材料，所述支持材料产生的光固化体在光成形之后具有优异的水溶性并且容易除去。一种用于通过喷墨光成形方法形成光成形制品的造型材料，所述造型材料包含加权平均SP值为9.0‑10.3的可固化树脂成分；和一种在通过喷墨光成形方法形成光成形制品期间用于形状支持的支持材料，所述支持材料包含水溶性单官能烯属单体(F)、数均分子量为100‑5,000的聚氧丙二醇和/或水(G)以及光聚合引发剂(D)。
公开/授权文献:
- CN105111380A 光加工模型的造型材料、光加工模型形状的支持材料和光加工模型的制造方法 公开/授权日：2015-12-02
IPC结构图谱:
| C | 化学；冶金 |
| --C08 | 有机高分子化合物；其制备或化学加工；以其为基料的组合物 |
| ----C08F | 仅用碳—碳不饱和键反应得到的高分子化合物 |
| ------C08F283/00 | 由单体接到C08G小类所包括的聚合物上聚合而得到的高分子化合物 |