基本信息:
- 专利标题： 基或亚烯基。Ra、Rb、Rc及Rd分别独立地表示特定高分子功能性膜及其制造方法 的取代基。n2及n4分别独立地表示1～10的整数。
- 申请号：CN201480012625.8 申请日：2014-03-25
- 公开(公告)号：CN105008030B 公开(公告)日：2017-03-22
- 发明人： 安居院绫子 , 佐藤真隆 , 小玉启祐 , 井上和臣
- 申请人： 富士胶片株式会社
- 申请人地址： 日本东京都
- 专利权人： 富士胶片株式会社
- 当前专利权人： 富士胶片株式会社
- 当前专利权人地址： 日本东京都
- 代理机构： 北京三友知识产权代理有限公司
- 代理人： 庞东成; 张志楠
- 优先权： 2013-064669 2013.03.26 JP
- 国际申请： PCT/JP2014/058270 2014.03.25
- 国际公布： WO2014/157195 JA 2014.10.02
- 进入国家日期： 2015-09-07
- 主分类号： B01D71/28
- IPC分类号： B01D71/28 ; B01D61/00 ; B01D61/02 ; B01D69/10 ; B01D69/12 ; B01D71/26 ; C08F212/14 ; C08F212/34
The present invention provides a polymer functional film obtained by polymerizing and curing a composition including (A) a styrene-based monomer represented by Formula (HSM); (B) a crosslinking agent represented by Formula (CL); and (C) a polymerization initiator represented by Formula (PI-1) or (PI-2), and a method for producing the same: in which R 1 represents a halogen atom or -N + (R 2 )(R 3 )(R 4 )(X 1 - ); n1 represents an integer from 1 to 10; here, R 2 to R 4 each independently represent a particular substituent; X 1 - represents an organic or inorganic anion; L 1 represents an alkylene group or an alkenylene group; Ra, Rb, Rc and Rd each independently represent a particular substituent; n2 and n4 each independently represent an integer from 1 to 10; X 2 - and X 3 - each independently represent an organic or inorganic anion; and R 5 to R 10 each represent a hydrogen atom or a particular substituent.
公开/授权文献:
- CN105008030A 高分子功能性膜及其制造方法 公开/授权日：2015-10-28
IPC结构图谱:
| B | 作业；运输 |
| --B01 | 一般的物理或化学的方法或装置 |
| ----B01D | 分离 |
| ------B01D71/00 | 以材料为特征的用于分离工艺或设备的半透膜；其专用制备方法 |
| --------B01D71/02 | .无机材料 |
| ----------B01D71/28 | ..乙烯基芳族化合物的聚合物 |