基本信息:
- 专利标题： 成像系统
- 申请号：CN201510109022.6 申请日：2015-03-12
- 公开(公告)号：CN104914572B 公开(公告)日：2018-02-02
- 发明人： 森久泰二郎
- 申请人： 株式会社理光
- 申请人地址： 日本东京都
- 专利权人： 株式会社理光
- 当前专利权人： 株式会社理光
- 当前专利权人地址： 日本东京都
- 代理机构： 北京市柳沈律师事务所
- 代理人： 安之斐
- 优先权： 2014-052791 2014.03.14 JP
- 主分类号： G02B27/00
- IPC分类号： G02B27/00 ; G06K7/10 ; H04N5/232
摘要：
成像系统包括光学系统、光学元件、光源以及成像设备。该光学系统对于不同的光波长具有不同的焦点位置。该光学元件扩展光学系统的景深。该光源用从多个波长之中指定的波长的照明光照射对象。该成像设备捕捉用该照明光照射的并且由该光学系统形成的对象的图像。
摘要（英）：
An imaging system includes an optical system, an optical element, a light source, and an imaging device. The optical system has different focus positions for different wavelengths of light. The optical element extends depth of field of the optical system. The light source irradiates an object with illumination light of a wavelength that is designated from among multiple wavelengths. The imaging device captures an image of the object that is irradiated with the illumination light and is formed by the optical system.
公开/授权文献:
- CN104914572A 成像系统 公开/授权日：2015-09-16
IPC结构图谱:
| G | 物理 |
| --G02 | 光学 |
| ----G02B | 光学元件、系统或仪器 |
| ------G02B27/00 | 其他光学系统；其他光学仪器 |