![使用高温计对锥形灯头内的灯进行的多区域控制](/CN/2013/8/13/images/201380068121.jpg)
基本信息:
- 专利标题: 使用高温计对锥形灯头内的灯进行的多区域控制
- 专利标题(英):Multizone control of lamps in a conical lamphead using pyrometers
- 申请号:CN201380068121.3 申请日:2013-11-15
- 公开(公告)号:CN104871299A 公开(公告)日:2015-08-26
- 发明人: 约瑟夫·M·拉内什 , 保罗·布里尔哈特 , 乔斯·安东尼奥·马林 , 萨瑟施·库珀奥 , 巴拉苏布拉马尼恩·拉马钱德雷 , 斯瓦米纳坦·T·斯里尼瓦桑 , 穆罕默德·图格鲁利·萨米尔
- 申请人: 应用材料公司
- 申请人地址: 美国加利福尼亚州
- 专利权人: 应用材料公司
- 当前专利权人: 应用材料公司
- 当前专利权人地址: 美国加利福尼亚州
- 代理机构: 北京律诚同业知识产权代理有限公司
- 代理人: 徐金国; 赵静
- 优先权: 61/753,002 2013.01.16 US; 61/753,305 2013.01.16 US; 13/796,169 2013.03.12 US
- 国际申请: PCT/US2013/070275 2013.11.15
- 国际公布: WO2014/113133 EN 2014.07.24
- 进入国家日期: 2015-06-25
- 主分类号: H01L21/324
- IPC分类号: H01L21/324
摘要:
描述了一种用于处理半导体基板的方法与设备。所述设备是具有光学透明的上拱形结构与下拱形结构的处理腔室。在处理过程中,处理腔室维持真空。通过沿着处理区域外的上拱形结构流动热控制流体来热控制上拱形结构。热灯被定位成靠近下拱形结构,热传感器被设置在灯之间。灯以区域供电,控制器根据从热传感器接收的数据来调整供至各灯区的功率。
摘要(英):
A method and apparatus for processing a semiconductor substrate is described. The apparatus is a process chamber having an optically transparent upper dome and lower dome. Vacuum is maintained in the process chamber during processing. The upper dome is thermally controlled by flowing a thermal control fluid along the upper dome outside the processing region. Thermal lamps are positioned proximate the lower dome, and thermal sensors are disposed among the lamps. The lamps are powered in zones, and a controller adjusts power to the lamp zones based on data received from the thermal sensors.
公开/授权文献:
- CN104871299B 使用高温计对锥形灯头内的灯进行的多区域控制 公开/授权日:2018-11-13
IPC结构图谱:
H | 电学 |
--H01 | 基本电气元件 |
----H01L | 半导体器件;其他类目未包含的电固体器件 |
------H01L21/00 | 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备 |
--------H01L21/02 | .半导体器件或其部件的制造或处理 |
----------H01L21/027 | ..未在H01L21/18或H01L21/34组中包含的为进一步的光刻工艺在半导体之上制作掩膜 |
------------H01L21/18 | ...器件有由周期表第Ⅳ族元素或含有/不含有杂质的AⅢBⅤ族化合物构成的半导体,如掺杂材料 |
--------------H01L21/26 | ....用波或粒子辐射轰击的 |
----------------H01L21/324 | .....用于改善半导体材料性能的热处理,例如退火、烧结 |