基本信息:
- 专利标题： 化学浴沉积的方法和系统
- 专利标题（英）：Method And System Of Chemical Bath Deposition
- 申请号：CN201410213787.X 申请日：2014-05-20
- 公开(公告)号：CN104868018A 公开(公告)日：2015-08-26
- 发明人： 蔡佩臻
- 申请人： 台积太阳能股份有限公司
- 申请人地址： 中国台湾台中市
- 专利权人： 台积太阳能股份有限公司
- 当前专利权人： 台湾积体电路制造股份有限公司
- 当前专利权人地址： 中国台湾台中市
- 代理机构： 北京德恒律治知识产权代理有限公司
- 代理人： 章社杲; 孙征
- 优先权： 14/186,002 2014.02.21 US
- 主分类号： H01L31/20
- IPC分类号： H01L31/20 ; C23C18/00
摘要：
一种用于化学浴沉积的装置，包括：限定化学罐的壳体、循环管道、和设置在化学罐内部的至少一个流量调节器件。化学罐具有位于顶面上的开口，并且化学罐配置为在其中接收和容纳至少一个衬底。循环管道具有位于化学罐内部的至少一部分，并且循环管道配置为向化学罐供给至少一种化学物质。至少一个流量调节器件包括涡轮机、扩散器和起泡器、或它们的组合中的任何一种。本发明涉及化学浴沉积的方法和系统。
摘要（英）：
An apparatus for chemical bath deposition includes a housing defining a chemical tank, a circulation pipe, and at least one flow adjustment device disposed inside the chemical tank. The chemical tank has an opening on a top surface and is configured to accept and hold at least one substrate inside the chemical tank. The circulation pipe has at least one portion inside the chemical tank, and is configured to supply at least one chemical to the chemical tank. The at least one flowing adjustment device includes any one of a turbine, a diffuser and a bubbler, or a combination thereof.
公开/授权文献:
- CN104868018B 化学浴沉积的方法和系统 公开/授权日：2017-06-13