基本信息:
- 专利标题： 一种飞秒激光刻蚀波导光栅的制备装置及方法
- 专利标题（英）：Device and method for preparing waveguide and grating by femtosecond laser etching
- 申请号：CN201510117677.8 申请日：2015-03-14
- 公开(公告)号：CN104777534A 公开(公告)日：2015-07-15
- 发明人： 周自刚 , 范宗学 , 杨永佳 , 冯杰 , 单常亮 , 魏欣芮 , 吴琴 , 林鹏
- 申请人： 西南科技大学
- 申请人地址： 四川省绵阳市涪城区青龙大道中段59号西南科技大学理学院
- 专利权人： 西南科技大学
- 当前专利权人： 西南科技大学
- 当前专利权人地址： 四川省绵阳市涪城区青龙大道中段59号西南科技大学理学院
- 主分类号： G02B5/18
- IPC分类号： G02B5/18 ; G03F7/00
摘要：
本发明公开了一种飞秒激光刻蚀波导光栅的制备装置及方法，该装置由飞秒激光器、光偏振器、分光镜、第一反射镜、第二反射镜、第三反射镜、显微物镜、铌酸锂晶体、精密旋转平台、三维电动平移台、光功率计和计算机依次连接而成。本发明解决如何控制激光条件，并能达到使用一个飞秒激光光源、仅一套加工设备来同时实现光波导以及光栅的制备。
摘要（英）：
The invention discloses a device and a method for preparing a waveguide and a grating by femtosecond laser etching. The device is formed by sequentially connecting a femtosecond laser, an optical polarizer, a beam splitter, a first reflector, a second reflector, a third reflector, a microobjective, lithium niobate crystals, a precision rotating platform, a three-dimensional electrical translation stage, an optical power meter and a computer. The device and the method solve the problem of how to control the laser condition and achieve an effect of using one femtosecond laser light source and only one set of processing equipment for simultaneously implementing preparation of the optical waveguide and the grating.
公开/授权文献:
- CN104777534B 一种飞秒激光刻蚀波导光栅的制备装置及方法 公开/授权日：2018-05-04