基本信息:
- 专利标题： 定向取向嵌段共聚物薄膜的制造
- 专利标题（英）：Fabrication of directionally oriented block copolymer films
- 申请号：CN201380033534.8 申请日：2013-06-05
- 公开(公告)号：CN104395230A 公开(公告)日：2015-03-04
- 发明人： G·辛格 , A·卡里姆
- 申请人： 阿克伦大学
- 申请人地址： 美国俄亥俄州
- 专利权人： 阿克伦大学
- 当前专利权人： 阿克伦大学
- 当前专利权人地址： 美国俄亥俄州
- 代理机构： 北京润平知识产权代理有限公司
- 代理人： 李婉婉; 金迪
- 优先权： 61/655，664 2012.06.05 US
- 国际申请： PCT/US2013/044303 2013.06.05
- 国际公布： WO2013/184795 EN 2013.12.12
- 进入国家日期： 2014-12-24
- 主分类号： B82Y40/00
- IPC分类号： B82Y40/00 ; B32B7/04 ; B32B27/28
摘要：
本发明提供定向取向嵌段共聚物薄膜和用于生产定向取向嵌段薄膜的区域退火工艺。所述区域退火工艺包括通过柔和剪切力工艺诱导水平取向嵌段共聚物的方法，以及借助于急剧动态区域退火来诱导垂直取向嵌段共聚物的方法。所述区域退火工艺能够实现定向取向嵌段薄膜的小规模及大规模生产。所述冷区退火工艺还能与图形外延方法组合使用。
摘要（英）：
Directionally oriented block copolymer films and zone annealing processes for producing directionally oriented block films are provided. The zone annealing processes include methods of inducing horizontally oriented block copolymers through a soft sheer process and methods of inducing vertically oriented block copolymers via sharp dynamic zone annealing. The zone annealing processes are capable of both small and large scale production of directionally oriented block films. The cold zone annealing processes are also capable of being combined with graphoepitaxy methods.
IPC结构图谱:
| B | 作业；运输 |
| --B82 | 超微技术 |
| ----B82Y | 纳米结构的特定用途或应用；纳米结构的测量或分析；纳米结构的制造或处理 |
| ------B82Y40/00 | 纳米结构的制造或处理 |