![一种掩模板](/CN/2014/1/122/images/201410610138.jpg)
基本信息:
- 专利标题: 一种掩模板
- 申请号:CN201410610138.3 申请日:2014-10-31
- 公开(公告)号:CN104280942B 公开(公告)日:2017-07-04
- 发明人: 柴国卫 , 冷荣军 , 孟祥明 , 胡瑾 , 罗祝义 , 张磊
- 申请人: 合肥京东方光电科技有限公司 , 京东方科技集团股份有限公司
- 申请人地址: 安徽省合肥市新站区铜陵北路2177号;
- 专利权人: 合肥京东方光电科技有限公司,京东方科技集团股份有限公司
- 当前专利权人: 合肥京东方光电科技有限公司,京东方科技集团股份有限公司
- 当前专利权人地址: 安徽省合肥市新站区铜陵北路2177号;
- 代理机构: 北京天昊联合知识产权代理有限公司
- 代理人: 彭瑞欣; 陈源
- 主分类号: G02F1/1339
- IPC分类号: G02F1/1339
摘要:
本发明提供一种掩模板,用于辅助对形成在玻璃基板上的厚度不同的隔垫物膜层进行曝光,以形成隔垫物的图形,包括掩模基板,掩模基板上设置有渐变透光结构,渐变透光结构能使形成在玻璃基板上的隔垫物的高度相同。该掩模板通过设置渐变透光结构,有效改善了对应隔垫物膜层厚度较薄区域的隔垫物高度偏低的情况,从而提高了玻璃基板上隔垫物高度的均一性,进而使该形成有隔垫物的玻璃基板与其他玻璃基板对盒后形成的液晶显示面板的用于容置液晶的间隙变得均一,不会再出现局部发黑或者局部气泡等的不良品质问题,改善了液晶显示面板的品质。
公开/授权文献:
- CN104280942A 一种掩模板 公开/授权日:2015-01-14
IPC结构图谱:
G | 物理 |
--G02 | 光学 |
----G02F | 用于控制光的强度、颜色、相位、偏振或方向的器件或装置,例如转换、选通、调制或解调,上述器件或装置的光学操作是通过改变器件或装置的介质的光学性质来修改的;用于上述操作的技术或工艺;变频;非线性光学;光学逻辑元件;光学模拟/数字转换器 |
------G02F1/00 | 控制来自独立光源的光的强度、颜色、相位、偏振或方向的器件或装置,例如,转换、选通或调制;非线性光学 |
--------G02F1/01 | .对强度、相位、偏振或颜色的控制 |
----------G02F1/09 | ..基于磁—光元件的,例如,呈现法拉第效应的 |
------------G02F1/133 | ...构造上的设备;液晶单元的工作;电路装置 |
--------------G02F1/1333 | ....构造上的设备 |
----------------G02F1/1339 | .....垫圈;间隔体;液晶单元的密封 |