基本信息:
- 专利标题： 用于电沉积光滑薄膜的方法和电解质
- 专利标题（英）：Methods and electrolytes for electrodeposition of smooth films
- 申请号：CN201280067088.8 申请日：2012-12-18
- 公开(公告)号：CN104040034A 公开(公告)日：2014-09-10
- 发明人： 张继光 , 许武 , G·L·格拉夫 , X·陈 , Y·邵 , F·丁
- 申请人： 巴特尔纪念研究院
- 申请人地址： 美国华盛顿
- 专利权人： 巴特尔纪念研究院
- 当前专利权人： 巴特尔纪念研究院
- 当前专利权人地址： 美国华盛顿
- 代理机构： 北京北翔知识产权代理有限公司
- 代理人： 侯婧; 钟守期
- 优先权： 13/367,508 2012.02.07 US; 13/495,727 2012.06.13 US
- 国际申请： PCT/US2012/070288 2012.12.18
- 国际公布： WO2013/119322 EN 2013.08.15
- 进入国家日期： 2014-07-15
- 主分类号： C25D5/10
- IPC分类号： C25D5/10 ; C25D3/02
摘要：
一种涉及含有表面光滑添加剂的电解质的电沉积，其可产生初始凸起尖端的自修复，而非自生长，所述凸起尖端会导致在基底和/或薄膜表面上形成粗糙和/或支晶。为了从电解质溶液中的一种或多种反应物将第一导电材料(C1)电沉积在基底上，所述电解质溶液的特征在于，一种可溶性表面光滑添加剂，所述表面光滑添加剂中含有第二导电材料(C2)的阳离子，其中C2的阳离子在溶液中的有效电化学还原电势低于反应物的有效电化学还原电势。
摘要（英）：
Electrodeposition involving an electrolyte having a surface-smoothing additive can result in self-healing, instead of self-amplification, of initial protuberant tips that give rise to roughness and/or dendrite formation on the substrate and/or film surface. For electrodeposition of a first conductive material (C1) on a substrate from one or more reactants in an electrolyte solution, the electrolyte solution is characterized by a surface-smoothing additive containing cations of a second conductive material (C2), wherein cations of C2 have an effective electrochemical reduction potential in the solution lower than that of the reactants.
公开/授权文献:
- CN104040034B 用于电沉积光滑薄膜的方法和电解质 公开/授权日：2017-08-25
IPC结构图谱:
| C | 化学；冶金 |
| --C25 | 电解或电泳工艺；其所用设备 |
| ----C25D | 覆层的电解或电泳生产工艺方法；电铸；工件的电解法接合；所用的装置 |
| ------C25D5/00 | 以工艺方法为特征的电镀；工件的预处理或后处理 |
| --------C25D5/10 | .一层以上相同金属或不同金属的电镀 |