基本信息:
- 专利标题： 测试和刻蚀衬底的多功能装置以及包括其的衬底加工装置
- 申请号：CN201310364896.7 申请日：2013-08-20
- 公开(公告)号：CN103904005B 公开(公告)日：2018-06-29
- 发明人： 金晟换 , 金相洙 , 郑柄成 , 宋济铉 , 李泰勳 , 梁成元 , 金泰亨
- 申请人： 三星显示有限公司
- 申请人地址： 韩国京畿道
- 专利权人： 三星显示有限公司
- 当前专利权人： 三星显示有限公司
- 当前专利权人地址： 韩国京畿道
- 代理机构： 北京英赛嘉华知识产权代理有限责任公司
- 代理人： 余朦; 杨莘
- 优先权： 10-2012-0155324 2012.12.27 KR
- 主分类号： H01L21/67
- IPC分类号： H01L21/67 ; H01L51/56
A multi-functional apparatus for testing and etching a substrate capable of increasing spatial efficiency and manufacturing efficiency by performing testing and etching operations in a same chamber body and a substrate processing apparatus including the same, the multi-functional apparatus including a chamber body having an entrance into which the substrate is injected in one of its sides and an exit from which the substrate is ejected in another one of its sides; a transfer unit disposed inside of the chamber body and for transferring the injected substrate in a direction from the entrance to the exit; a laser etching unit disposed on an upper portion of the transfer unit and for etching a part of the substrate disposed on the transfer unit; and a testing unit for testing the substrate disposed on the transfer unit.
公开/授权文献:
- CN103904005A 测试和刻蚀衬底的多功能装置以及包括其的衬底加工装置 公开/授权日：2014-07-02
IPC结构图谱:
| H | 电学 |
| --H01 | 基本电气元件 |
| ----H01L | 半导体器件；其他类目未包含的电固体器件 |
| ------H01L21/00 | 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备 |
| --------H01L21/67 | .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置 |