![线性沉积源及包括该线性沉积源的真空沉积装置](/CN/2013/1/13/images/201310067210.jpg)
基本信息:
- 专利标题: 线性沉积源及包括该线性沉积源的真空沉积装置
- 申请号:CN201310067210.8 申请日:2013-03-04
- 公开(公告)号:CN103774095B 公开(公告)日:2019-02-12
- 发明人: 金珉镐 , 郑成镐 , 崔炫
- 申请人: 三星显示有限公司
- 申请人地址: 韩国京畿道
- 专利权人: 三星显示有限公司
- 当前专利权人: 三星显示有限公司
- 当前专利权人地址: 韩国京畿道
- 代理机构: 北京德琦知识产权代理有限公司
- 代理人: 齐葵; 周艳玲
- 优先权: 10-2012-0117356 2012.10.22 KR
- 主分类号: C23C14/24
- IPC分类号: C23C14/24
摘要:
本发明涉及线性沉积源及包括该线性沉积源的真空沉积装置。本发明的线性沉积源包括:坩埚,存储蒸发物质;加热部,加热所述坩埚;及侧面反射器。所述侧面反射器包围所述加热部的侧面,设置为多个。多个所述侧面反射器分别包括第一反射器及第二反射器。所述第一反射器与所述加热部隔开而结合,具有多个第一开口。所述第二反射器能够移动地与所述第一反射器结合,具有第二开口。多个所述侧面反射器的开口率是相互独立地调节的,因此能够按区域调节所述坩埚的温度,结果是能够提高线性沉积源的沉积均匀度。
公开/授权文献:
- CN103774095A 线性沉积源及包括该线性沉积源的真空沉积装置 公开/授权日:2014-05-07