![闪耀凹面光栅制作装置及制作方法](/CN/2014/1/5/images/201410026216.jpg)
基本信息:
- 专利标题: 闪耀凹面光栅制作装置及制作方法
- 申请号:CN201410026216.5 申请日:2014-01-20
- 公开(公告)号:CN103744137B 公开(公告)日:2015-11-18
- 发明人: 周倩 , 倪凯 , 逄锦超 , 田瑞 , 许明飞 , 董昊 , 张锦超
- 申请人: 清华大学深圳研究生院
- 申请人地址: 广东省深圳市南山区西丽大学城清华校区
- 专利权人: 清华大学深圳研究生院
- 当前专利权人: 清华大学深圳研究生院
- 当前专利权人地址: 广东省深圳市南山区西丽大学城清华校区
- 代理机构: 深圳新创友知识产权代理有限公司
- 代理人: 王震宇
- 主分类号: G02B5/18
- IPC分类号: G02B5/18 ; G03F7/00
摘要:
本发明公开了一种闪耀凹面光栅制作装置,包括凸面闪耀母光栅,所述凸面闪耀母光栅包括按不同的角度紧密拼合在一起的可分离的多个拼接块,所述多个拼接块拼合在一起形成的凸面的曲率半径与待制作的闪耀凹面光栅的曲率半径一致。本发明还公开了一种相应的闪耀凹面光栅制作方法。本发明的闪耀凹面光栅制作装置及制作方法能避免闪耀凹面光栅从母光栅上拔取时造成槽型的破坏,有效解决复制闪耀凹面光栅槽型误差大的问题。
公开/授权文献:
- CN103744137A 闪耀凹面光栅制作装置及制作方法 公开/授权日:2014-04-23