基本信息:
- 专利标题： 具有冷却剂气体孔洞的紫外线反射器及方法
- 专利标题（英）：Ultraviolet reflector with coolant gas hole and method
- 申请号：CN201310386155.9 申请日：2009-10-20
- 公开(公告)号：CN103400627A 公开(公告)日：2013-11-20
- 发明人： Y-H·杨 , T·A·恩古耶 , S·巴录佳 , A·卡祖巴 , J·C·罗查 , T·诺瓦克 , D·W·何
- 申请人： 应用材料公司
- 申请人地址： 美国加利福尼亚州
- 专利权人： 应用材料公司
- 当前专利权人： 应用材料公司
- 当前专利权人地址： 美国加利福尼亚州
- 代理机构： 上海专利商标事务所有限公司
- 代理人： 陆嘉
- 优先权： 12/255,609 2008.10.21 US
- 分案原申请号： 2009801423975 2009.10.20
- 主分类号： G21K1/06
- IPC分类号： G21K1/06 ; B82Y10/00
摘要：
一种用于紫外线灯的反射器，该紫外线灯可在基材处理设备中使用。该反射器包含在该紫外线灯长度上延伸的纵向带。该纵向带具有一弯曲反射表面并且包含数个通孔以将冷却剂气体导向该紫外线灯。在此亦描述使用具有反射器的紫外线灯模块的腔室以及紫外线处理的方法。
摘要（英）：
A reflector for an ultraviolet lamp can be used in a substrate processing apparatus. The reflector comprises a longitudinal strip extending the length of the ultraviolet lamp. The longitudinal strip has a curved reflective surface and comprises a plurality of through holes to direct a coolant gas toward the ultraviolet lamp. A chamber that uses an ultraviolet lamp module with the reflector, and a method of ultraviolet treatment are also described.
IPC结构图谱:
| G | 物理 |
| --G21 | 核物理；核工程 |
| ----G21K | 未列入其他类目的粒子或电磁辐射的处理技术；照射装置；γ射线或X射线显微镜 |
| ------G21K1/00 | 辐射或粒子的处理装置，如聚焦、慢化 |
| --------G21K1/06 | .应用衍射、折射或反射，如单色仪 |