基本信息:
- 专利标题： Al基合金溅射靶及其制造方法
- 申请号：CN201180048311.X 申请日：2011-10-05
- 公开(公告)号：CN103154308B 公开(公告)日：2015-12-09
- 发明人： 松本克史 , 高木胜寿 , 武富雄一 , 中井淳一 , 莳野秀忠 , 高木敏晃
- 申请人： 株式会社神户制钢所 , 株式会社钢臂功科研
- 申请人地址： 日本兵库县
- 专利权人： 株式会社神户制钢所,株式会社钢臂功科研
- 当前专利权人： 株式会社神户制钢所,株式会社钢臂功科研
- 当前专利权人地址： 日本兵库县
- 代理机构： 中科专利商标代理有限责任公司
- 代理人： 王玉玲
- 优先权： 2010-228983 2010.10.08 JP; 2011-086696 2011.04.08 JP
- 国际申请： PCT/JP2011/072980 2011.10.05
- 国际公布： WO2012/046768 JA 2012.04.12
- 进入国家日期： 2013-04-03
- 主分类号： C23C14/34
- IPC分类号： C23C14/34 ; B22F3/115 ; B22F3/15 ; B22F3/24 ; C22C1/02 ; C22C1/04 ; C22C21/00 ; C22F1/00
摘要：
本发明提供使用了溅射靶时的成膜速度(溅射速率)被提高、理想的是能够防止飞溅的发生的Al基合金溅射靶。本发明的Al基合金溅射靶含有Ta。优选的是含有Al及Ta的Al-Ta系金属间化合物的平均粒子直径为0.005μm以上且1.0μm以下，且Al-Ta系金属间化合物的平均粒子间距离满足0.01μm以上且10.0μm以下。
公开/授权文献:
- CN103154308A Al基合金溅射钯及其制造方法 公开/授权日：2013-06-12