基本信息:
- 专利标题： 附有金属布线的半导体用清洗剂
- 专利标题（英）：Cleaning agent for semiconductor provided with metal wiring
- 申请号：CN201180010737.6 申请日：2011-01-28
- 公开(公告)号：CN102770524B 公开(公告)日：2015-04-22
- 发明人： 中西睦 , 吉持浩 , 小路祐吉
- 申请人： 高级技术材料公司
- 申请人地址： 美国康涅狄格州
- 专利权人： 高级技术材料公司
- 当前专利权人： 恩特格里斯公司
- 当前专利权人地址： 美国康涅狄格州
- 代理机构： 中原信达知识产权代理有限责任公司
- 代理人： 刘慧; 杨青
- 优先权： 2010-017772 2010.01.29 JP; 2010-072824 2010.03.26 JP
- 国际申请： PCT/US2011/022961 2011.01.28
- 国际公布： WO2011/094568 EN 2011.08.04
- 进入国家日期： 2012-08-23
- 主分类号： C11D7/32
- IPC分类号： C11D7/32 ; C11D3/37 ; C09K3/14 ; H01L21/304
摘要：
本发明涉及附有金属布线的微电子装置用清洗剂，其具有用于移除源自抛光剂的抛光颗粒残留物的优异能力及移除绝缘薄膜上的金属残留物的优异能力，且具有对金属布线的优异抗腐蚀性。该清洗剂是在其中形成金属布线(例如，铜或钨)的微电子装置的生产方法中在化学机械抛光后的步骤使用。
公开/授权文献:
- CN102770524A 附有金属布线的半导体用清洗剂 公开/授权日：2012-11-07
IPC结构图谱:
| C | 化学；冶金 |
| --C11 | 动物或植物油、脂、脂肪物质或蜡；由此制取的脂肪酸；洗涤剂；蜡烛 |
| ----C11D | 洗涤剂组合物；用单一物质作为洗涤剂；皂或制皂；树脂皂；甘油的回收 |
| ------C11D7/00 | 主要以非表面活性化合物为基料的洗涤剂组合物 |
| --------C11D7/02 | .无机化合物 |
| ----------C11D7/32 | ..含氮的 |