![用于制备立方氧化锆层的方法](/CN/2010/8/10/images/201080053523.jpg)
基本信息:
- 专利标题: 用于制备立方氧化锆层的方法
- 申请号:CN201080053523.2 申请日:2010-09-24
- 公开(公告)号:CN102666908B 公开(公告)日:2020-07-21
- 发明人: J.拉姆 , B.维德里希
- 申请人: 欧瑞康表面解决方案股份公司 , 普费菲孔
- 申请人地址: 瑞士普费菲孔
- 专利权人: 欧瑞康表面解决方案股份公司,普费菲孔
- 当前专利权人: 欧瑞康表面解决方案股份公司,普费菲孔
- 当前专利权人地址: 瑞士普费菲孔
- 代理机构: 中国专利代理(香港)有限公司
- 代理人: 石克虎; 林森
- 优先权: 61/245750 2009.09.25 US
- 国际申请: PCT/EP2010/064136 2010.09.24
- 国际公布: WO2011/036246 DE 2011.03.31
- 进入国家日期: 2012-05-25
- 主分类号: C23C14/00
- IPC分类号: C23C14/00 ; C23C14/06 ; C23C14/08 ; C23C14/32
摘要:
为了在沉积基材上产生基于氧化锆的层,使用了包含单质锆石和至少一种稳定剂的混合靶,或者使用由元素锆组成的锆靶,在该方法中使用了反应性火花蒸发,该火花蒸发使用脉冲的火花电流和/或施加了垂直于火花靶的磁场,其中除了氧气之外,将氮气用作反应性气体。作为选项,与混合靶使用相结合,除了氧气之外,氮气也可以用作反应性气体。
公开/授权文献:
- CN102666908A 用于制备立方氧化锆层的方法 公开/授权日:2012-09-12