基本信息:
- 专利标题： 合成非晶态二氧化硅粉末及其制造方法
- 专利标题（英）：Synthetic amorphous silica powder and method for producing same
- 申请号：CN201080057330.4 申请日：2010-12-24
- 公开(公告)号：CN102652110A 公开(公告)日：2012-08-29
- 发明人： 植田稔晃
- 申请人： 三菱综合材料株式会社
- 申请人地址： 日本东京都
- 专利权人： 三菱综合材料株式会社
- 当前专利权人： 三菱综合材料株式会社
- 当前专利权人地址： 日本东京都
- 代理机构： 中国专利代理(香港)有限公司
- 代理人： 蔡晓菡; 高旭轶
- 优先权： 2010-001788 2010.01.07 JP
- 国际申请： PCT/JP2010/073287 2010.12.24
- 国际公布： WO2011/083697 JA 2011.07.14
- 进入国家日期： 2012-06-15
- 主分类号： C01B33/18
- IPC分类号： C01B33/18 ; B01J19/08 ; B07B4/02 ; B22F1/00
Disclosed is a synthetic amorphous silica powder, which is obtained by subjecting a silica powder to spheroidizing treatment and then cleaning and drying the resulting silica powder, and which has an average particle diameter D50 of 10-2,000 [mu]m. The synthetic amorphous silica powder is characterized by having a value, which is obtained by dividing the BET specific surface area by the theoretical specific surface area as calculated from the average particle diameter D50, of 1.00-1.35, a true density of 2.10-2.20 g/cm3, an intramolecular porosity of 0-0.05, a circularity of 0.75-1.00, and a spheroidization ratio of 0.55-1.00. Since the amount of gas components adsorbed on the surface of the synthetic amorphous silica powder or contained in the powder is little, a synthetic silica glass product that is produced using the powder can be greatly reduced in generation or expansion of gas bubbles even when used in a high temperature and reduced pressure environment.
公开/授权文献:
- CN102652110B 合成非晶态二氧化硅粉末及其制造方法 公开/授权日：2016-02-24
IPC结构图谱:
| C | 化学；冶金 |
| --C01 | 无机化学 |
| ----C01B | 非金属元素；其化合物 |
| ------C01B33/00 | 硅；其化合物 |
| --------C01B33/08 | .含卤素的化合物 |
| ----------C01B33/12 | ..硅石；其水合物，如勒皮硅酸 |
| ------------C01B33/18 | ...既非溶胶态又非凝胶态的细分散硅石的制备；其后处理 |