![用于电池和超电容器的多孔三维铜、锡、铜锡、铜锡钴、及铜锡钴钛电极](/CN/2010/8/2/images/201080014859.jpg)
基本信息:
- 专利标题: 用于电池和超电容器的多孔三维铜、锡、铜锡、铜锡钴、及铜锡钴钛电极
- 专利标题(英):Porous three dimensional copper, tin, copper-tin, copper-tin-cobalt, and copper-tin-cobalt-titanium electrodes for batteries and ultra capacitors
- 申请号:CN201080014859.8 申请日:2010-01-29
- 公开(公告)号:CN102379050A 公开(公告)日:2012-03-14
- 发明人: 瑟奇·D·洛帕汀 , 德米特里·A·布列夫诺夫 , 罗伯特·Z·巴克拉克
- 申请人: 应用材料公司
- 申请人地址: 美国加利福尼亚州
- 专利权人: 应用材料公司
- 当前专利权人: 应用材料公司
- 当前专利权人地址: 美国加利福尼亚州
- 代理机构: 北京律诚同业知识产权代理有限公司
- 代理人: 徐金国; 钟强
- 优先权: 61/149,933 2009.02.04 US; 61/155,454 2009.02.25 US; 61/156,862 2009.03.02 US; 12/459,313 2009.06.30 US
- 国际申请: PCT/US2010/022597 2010.01.29
- 国际公布: WO2010/090956 EN 2010.08.12
- 进入国家日期: 2011-09-30
- 主分类号: H01M4/04
- IPC分类号: H01M4/04 ; H01M4/66 ; H01G9/042 ; H01M4/485 ; H01M4/583 ; H01M10/0525
摘要:
在此提供一种用于形成可靠且合乎经济效益的电池或电化学电容器电极结构的方法及设备,所述电极结构具有改善的寿命、较低的生产成本以及改善的工艺性能。在一个实施例中,提供一种用于形成电池或电化学单元的三维多孔电极的方法。所述方法包含通过扩散限制沉积工艺以第一电流密度在基板之上沉积圆柱状金属层;以及以大于该第一电流密度的第二电流密度在该圆柱状金属层之上沉积三维金属多孔树突状结构。
摘要(英):
A method and apparatus for forming a reliable and cost efficient battery or electrochemical capacitor electrode structure that has an improved lifetime, lower production costs, and improved process performance are provided. In one embodiment a method for forming a three dimensional porous electrode for a battery or an electrochemical cell is provided. The method comprises depositing a columnar metal layer over a substrate at a first current density by a diffusion limited deposition process and depositing three dimensional metal porous dendritic structures over the columnar metal layer at a second current density greater than the first current density.
公开/授权文献:
- CN102379050B 用于电池和超电容器的多孔三维铜、锡、铜锡、铜锡钴、及铜锡钴钛电极 公开/授权日:2014-06-11