专利号CN201110128498.6 | 光酸产生剂及含有该光酸产生剂的光致抗蚀剂

专利标题：光酸产生剂及含有该光酸产生剂的光致抗蚀剂
专利标题（英）：Photoacid generators and photoresists comprising the same
申请号：CN201110128498.6 申请日：2011-03-31
公开(公告)号：CN102304068B 公开(公告)日：2014-04-30
发明人： E·阿恰达 , 李明琦 , C-B·徐
申请人：罗门哈斯电子材料有限公司
申请人地址：美国马萨诸塞州
专利权人：罗门哈斯电子材料有限公司
当前专利权人：罗门哈斯电子材料有限公司
当前专利权人地址：美国马萨诸塞州
代理机构：上海专利商标事务所有限公司
代理人：陈哲锋
优先权： 61/319,700 2010.03.31 US
主分类号： C07C309/17
IPC分类号： C07C309/17 ; C07C303/32 ; C07C381/12 ; C07D307/00 ; C07D307/88 ; C07D327/04 ; C07D333/46 ; G03F7/004 ; G03F7/00

摘要：

光酸产生剂及含有该光酸产生剂的光致抗蚀剂。本发明涉及合成光酸产生剂化合物(“PAGs”)的新方法、新的光酸产生剂化合物和含有这些PAG化合物的光致抗蚀剂组合物。在特别的方面，光酸产生剂具有1)SO3-基团，2)一个或多个氟化碳原子和3)一个或多个直接或间接地被酮酸酯基团取代的氟化碳原子。

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