基本信息:
- 专利标题： 感光性树脂组合物及其中使用的感光性树脂的制造方法
- 专利标题（英）：Photosensitive resin composition and method for producing photosensitive resin used therein
- 申请号：CN200980137692.1 申请日：2009-07-08
- 公开(公告)号：CN102164977B 公开(公告)日：2014-01-29
- 发明人： 上井浩志 , 荻原和重
- 申请人： 昭和电工株式会社
- 申请人地址： 日本东京都
- 专利权人： 昭和电工株式会社
- 当前专利权人： 株式会社力森诺科
- 当前专利权人地址： 日本东京
- 代理机构： 北京同达信恒知识产权代理有限公司
- 代理人： 李中奎
- 优先权： 2008-276084 2008.10.27 JP
- 国际申请： PCT/JP2009/062446 2009.07.08
- 国际公布： WO2010/050272 JA 2010.05.06
- 进入国家日期： 2011-03-24
- 主分类号： C08F290/06
- IPC分类号： C08F290/06 ; C08G59/17 ; G03F7/027
摘要：
本发明的感光性树脂组合物含有：(A)感光性树脂，该感光性树脂是通过下述方式获得：在三价有机磷化合物与环烷酸锆和辛酸锆中的至少一种的存在下，使多官能环氧化合物与不饱和一元酸反应，进而与多元酸酐反应而生成羧基，然后使具有不饱和双键的单环氧化合物和水溶性单环氧化合物与所述羧基反应；(B)环氧树脂；(C)光聚合引发剂；以及(D)反应性稀释剂。本发明的感光性树脂组合物不含铬化合物，能够紫外线曝光和利用稀碱水溶液进行显影，适合作为光敏度高，并且热稳定性和显影管理范围良好、涂膜显示出优异性能的阻焊油墨。
公开/授权文献:
- CN102164977A 感光性树脂组合物及其中使用的感光性树脂的制造方法 公开/授权日：2011-08-24
IPC结构图谱:
| C | 化学；冶金 |
| --C08 | 有机高分子化合物；其制备或化学加工；以其为基料的组合物 |
| ----C08F | 仅用碳—碳不饱和键反应得到的高分子化合物 |
| ------C08F290/00 | 由单体接到引入脂肪族不饱和端基或侧基而改性的聚合物上而得到的高分子化合物 |
| --------C08F290/02 | .接到引入不饱和端基而改性的聚合物上 |
| ----------C08F290/06 | ..包含在C08G小类中的聚合物 |