基本信息:
- 专利标题： 用于电沉积铜层的无氰电解液组合物
- 专利标题（英）：Cyanide free electrolyte composition for the galvanic deposition of a copper layer
- 申请号：CN200980136225.7 申请日：2009-07-15
- 公开(公告)号：CN102159752B 公开(公告)日：2013-01-16
- 发明人： 斯蒂芬·沙菲尔
- 申请人： 恩索恩公司
- 申请人地址： 美国康涅狄格州
- 专利权人： 恩索恩公司
- 当前专利权人： 恩索恩公司
- 当前专利权人地址： 美国康涅狄格州
- 代理机构： 北京市安伦律师事务所
- 代理人： 吴华; 李瑞峰
- 优先权： 102008033174.0 2008.07.15 DE
- 国际申请： PCT/US2009/050683 2009.07.15
- 国际公布： WO2010/009225 EN 2010.01.21
- 进入国家日期： 2011-03-15
- 主分类号： C25D3/38
- IPC分类号： C25D3/38
摘要：
用于在基材表面上电沉积铜层的无氰电解液组合物和用于沉积这类层的方法。该电解液组合物至少包含铜(II)离子，乙内酰脲和/或乙内酰脲衍生物，二羧酸和/或三羧酸或它们的盐，以及选自钼、钨和钒的元素的金属酸盐和/或铈化合物。
公开/授权文献:
- CN102159752A 用于电沉积铜层的无氰电解液组合物 公开/授权日：2011-08-17