![用于制造液体排出头的方法](/CN/2010/1/38/images/201010194749.jpg)
基本信息:
- 专利标题: 用于制造液体排出头的方法
- 专利标题(英):Method for manufacturing liquid discharge head
- 申请号:CN201010194749.6 申请日:2010-06-04
- 公开(公告)号:CN101920598A 公开(公告)日:2010-12-22
- 发明人: 早川和宏
- 申请人: 佳能株式会社
- 申请人地址: 日本东京都大田区下丸子3丁目30番2号
- 专利权人: 佳能株式会社
- 当前专利权人: 佳能株式会社
- 当前专利权人地址: 日本东京都大田区下丸子3丁目30番2号
- 代理机构: 北京林达刘知识产权代理事务所
- 代理人: 刘新宇
- 优先权: 2009-140151 2009.06.11 JP
- 主分类号: B41J2/16
- IPC分类号: B41J2/16
摘要:
一种用于制造液体排出头的方法,包括:将含有金属氮化物的第一层设置于硅基板的一个面的与供给口对应的至少一部分;将第二层设置于第一层上,第二层由铝、铜和金中的任何一种及其的合金构成;通过反应离子蚀刻沿从相反面朝向该一个面的方向蚀刻硅基板的与供给口对应的部分,使得蚀刻区域到达第一层;以及去除第一层的与供给口对应的部分,然后去除第二层的与供给口对应的部分,由此形成供给口。
摘要(英):
A method for manufacturing a liquid discharge head includes providing a first layer containing a metal nitride to at least a portion on one surface of a silicon substrate corresponding to a supply port; providing a second layer on the first layer, the second layer including any one of aluminum, copper, and gold, or an alloy thereof; etching a portion of the silicon substrate corresponding to the supply port by reactive ion etching in a direction from the reverse surface towards the one surface so that the etched region reaches the first layer; and removing a portion of the first layer corresponding to the supply port and then removing a portion of the second layer corresponding to the supply port, thus forming the supply port.
公开/授权文献:
- CN101920598B 用于制造液体排出头的方法 公开/授权日:2012-11-28
IPC结构图谱:
B | 作业;运输 |
--B41 | 印刷;排版机;打字机;模印机 |
----B41J | 打字机;选择性印刷机构,即不用印刷的印刷机构;排版错误的修正 |
------B41J2/00 | 以打印或标记工艺为特征而设计的打字机或选择性印刷机构 |
--------B41J2/005 | .特征在于使液体或粉粒有选择地与印刷材料接触 |
----------B41J2/01 | ..油墨喷射 |
------------B41J2/015 | ...特征在于喷墨的产生方法 |
--------------B41J2/16 | ....喷嘴的制造 |