基本信息:
- 专利标题： 使用紫外线辐射改变电荷
- 专利标题（英）：Charge alteration using ultraviolet radiation
- 申请号：CN200880122029.X 申请日：2008-12-16
- 公开(公告)号：CN101904226A 公开(公告)日：2010-12-01
- 发明人： 理查德·M·让德尔杰克 , 戴维·L·菲利普斯 , 米切尔·A·F·约翰逊 , 彼得·T·本松
- 申请人： 3M创新有限公司
- 申请人地址： 美国明尼苏达州
- 专利权人： 3M创新有限公司
- 当前专利权人： 3M创新有限公司
- 当前专利权人地址： 美国明尼苏达州
- 代理机构： 中原信达知识产权代理有限责任公司
- 代理人： 梁晓广; 关兆辉
- 优先权： 61/015,950 2007.12.21 US
- 国际申请： PCT/US2008/086958 2008.12.16
- 国际公布： WO2009/085742 EN 2009.07.09
- 进入国家日期： 2010-06-21
- 主分类号： H05F3/06
- IPC分类号： H05F3/06
摘要：
本发明公开了一种使用紫外线辐射来改变电介质材料(90)上的电荷的系统(109)。所述系统包括气源(102)和紫外线辐射源(104)。所述气源(102)将气体(103)引入邻近电介质材料(90)的区域。所述紫外线辐射源(104)被布置用于照射所述区域以调整电介质材料上的电荷。本发明还公开了一种改变电介质材料(90)上的电荷的方法，在该方法中气体(103)被引入邻近电介质材料(90)的区域。然后用紫外线辐射(105)照射所述区域以改变电介质材料(90)上的电荷。
摘要（英）：
A system (109) for altering charge of a dielectric material (90) uses ultraviolet radiation. The system includes a gas source (102) and an ultraviolet radiation source (104). The gas source (102) introduced a gas (103) to a region adjacent the dielectric material (90). The ultraviolet radiation source (104) is arranged to irradiate the region to adjust charge on the dielectric material. A method of altering charge on a dielectric material (90) is also disclosed in which a gas (103) is introduced to a region adjacent the dielectric materia (90)1. The region is then irradiated with the ultraviolet radiation (105) to alter charge on the dielectric material (90).