基本信息:
- 专利标题： 离子源
- 专利标题（英）：Ion source
- 申请号：CN201010220307.4 申请日：2010-07-09
- 公开(公告)号：CN101894725B 公开(公告)日：2011-12-14
- 发明人： 柳鹏 , 周段亮 , 陈丕瑾 , 胡昭复 , 郭彩林 , 杜秉初 , 范守善
- 申请人： 清华大学 , 鸿富锦精密工业(深圳)有限公司
- 申请人地址： 北京市海淀区清华大学清华-富士康纳米科技研究中心401室
- 专利权人： 清华大学,鸿富锦精密工业(深圳)有限公司
- 当前专利权人： 清华大学,鸿富锦精密工业(深圳)有限公司
- 当前专利权人地址： 北京市海淀区清华大学清华-富士康纳米科技研究中心401室
- 主分类号： H01J29/04
- IPC分类号： H01J29/04 ; H01J1/304
The invention relates to an ion source. The ion source comprises a vacuum container, an ion electrode and a field emission electron source, wherein the vacuum container is provided with a gas inlet and an ion outgoing hole; the ion electrode is arranged at the ion outgoing hole of the vacuum container; the field emission electron source is arranged in the vacuum container; an electron outgoing part of the field emission electron source is formed on a cathode electrode, so that an electron emission end of an electron emitter is not exposed through the electron outgoing part; and thus, when ions produced by the collision of the electrons emitted by the electron emitter and free gas molecules in the vacuum move towards an electron extraction electrode, the ions do not bombard the electron emitter so as to prolong the life of the electron emitter.
公开/授权文献:
- CN101894725A 离子源 公开/授权日：2010-11-24