基本信息:
- 专利标题： 用于光致抗蚀剂组合物的聚合物
- 专利标题（英）：Polymers for use in photoresist compositions
- 申请号：CN200880104250.2 申请日：2008-08-22
- 公开(公告)号：CN101815733A 公开(公告)日：2010-08-25
- 发明人： S·查克拉帕尼 , M·帕德马纳本 , M·迪亚加拉詹 , 工藤隆范 , D·L·伦特奇维茨
- 申请人： AZ电子材料美国公司
- 申请人地址： 美国新泽西
- 专利权人： AZ电子材料美国公司
- 当前专利权人： 默克专利有限公司
- 当前专利权人地址： 美国新泽西
- 代理机构： 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所
- 代理人： 王健
- 优先权： 11/844,589 2007.08.24 US
- 国际申请： PCT/IB2008/002218 2008.08.22
- 国际公布： WO2009/027794 EN 2009.03.05
- 进入国家日期： 2010-02-24
- 主分类号： C08F220/26
- IPC分类号： C08F220/26 ; C08F220/18 ; G03F7/039
摘要：
一种聚合物，它包含(i)两个或更多个选自以下的重复单元其中R61、R62、R63和R65中的每一个单独地选自氢或C1-4烷基；R64是C1-4烷基；和(ii)至少一种附加的选自以下的重复单元其中R61、R62、R63、R64和R65各自单独地选自氢或C1-4烷基，n是0-3的数，可用作光致抗蚀剂组合物的组分。
摘要（英）：
A polymer comprising (i) two or more recurring units selected from : (1) to (7) where each of R61, R62, R63. and Res are individually selected from hydrogen or C1-4 alkyl; and R64 is C1-4 alkyl; and (ii) at least one additional recurring unit selected from (8) to (19), where each R61, R62, R63, R64, and R65 are individually selected from hydrogen or C1-4 alkyl and n is a number 0 to 3, is useful a component of photoresist compositions.
公开/授权文献:
- CN101815733B 用于光致抗蚀剂组合物的聚合物 公开/授权日：2013-06-19
IPC结构图谱:
| C | 化学；冶金 |
| --C08 | 有机高分子化合物；其制备或化学加工；以其为基料的组合物 |
| ----C08F | 仅用碳—碳不饱和键反应得到的高分子化合物 |
| ------C08F220/00 | 具有1个或更多不饱和脂族基化合物的共聚物，每个不饱和脂族基只有1个碳—碳双键，并且只有1个是仅以羧基或它的盐、酐、酯、酰胺、酰亚胺或腈为终端 |
| --------C08F220/02 | .具有少于10个碳原子的一元羧酸；它的衍生物 |
| ----------C08F220/10 | ..酯 |
| ------------C08F220/26 | ...除羧基的氧外还含其他氧的酯 |