![微波等离子体发生设备和等离子体炬](/CN/2008/8/21/images/200880107802.jpg)
基本信息:
- 专利标题: 微波等离子体发生设备和等离子体炬
- 专利标题(英):Microwave plasma generating devices and plasma torches
- 申请号:CN200880107802.5 申请日:2008-09-16
- 公开(公告)号:CN101803471A 公开(公告)日:2010-08-11
- 发明人: Z·扎科泽斯基 , M·穆伊桑 , D·介朗 , J-C·罗斯坦
- 申请人: 乔治洛德方法研究和开发液化空气有限公司
- 申请人地址: 法国巴黎
- 专利权人: 乔治洛德方法研究和开发液化空气有限公司
- 当前专利权人: 乔治洛德方法研究和开发液化空气有限公司
- 当前专利权人地址: 法国巴黎
- 代理机构: 北京市中咨律师事务所
- 代理人: 杨晓光; 于静
- 优先权: 0757719 2007.09.20 FR
- 国际申请: PCT/FR2008/051659 2008.09.16
- 国际公布: WO2009/047441 FR 2009.04.16
- 进入国家日期: 2010-03-19
- 主分类号: H05H1/24
- IPC分类号: H05H1/24 ; H05H1/46
摘要:
本发明涉及一种等离子体发生设备,其包括至少一个甚高频源(>100MHz),所述甚高频源经由阻抗适配设备而被连接到附在电介质衬底上的细长导体;至少一个用于冷却所述导体的装置;以及至少一个气体供给,其位于所述电介质衬底的与支撑所述导体的一侧相反的一侧的附近。本发明还涉及使用所述设备的等离子体炬。
摘要(英):
The invention relates to a plasma generating device that comprises at least one very high frequency source (> 100 MHz) connected via an impedance adaptation device to an elongated conductor attached on a dielectric substrate, at least one means for cooling said conductor, and at least one gas supply in the vicinity of the dielectric substrate on a side opposite to that bearing the conductor. The invention also relates to plasma torches using said device.
公开/授权文献:
- CN101803471B 微波等离子体发生设备和等离子体炬 公开/授权日:2012-09-19