基本信息:
- 专利标题： 清洁部件、带清洁功能的搬送部件以及基板处理装置的清洁方法
- 专利标题（英）：Cleaning member, delivery member with cleaning function, and method of cleaning substrate processing apparatus
- 申请号：CN200780029890.7 申请日：2007-06-26
- 公开(公告)号：CN101501823B 公开(公告)日：2010-09-01
- 发明人： 寺田好夫 , 菅生悠树 , 吉田良德 , 前野洋平
- 申请人： 日东电工株式会社
- 申请人地址： 日本国大阪府
- 专利权人： 日东电工株式会社
- 当前专利权人： 日东电工株式会社
- 当前专利权人地址： 日本国大阪府
- 代理机构： 北京尚诚知识产权代理有限公司
- 代理人： 龙淳
- 优先权： 219434/2006 2006.08.11 JP
- 国际申请： PCT/JP2007/062749 2007.06.26
- 国际公布： WO2008/018246 JA 2008.02.14
- 进入国家日期： 2009-02-11
- 主分类号： H01L21/304
- IPC分类号： H01L21/304 ; B08B1/00
摘要：
本发明提供一种在清洁部位不产生污染、并能够简便、可靠、充分地除去微细的异物、优选亚微米级的异物的清洁部件。并且，本发明提供一种具有该清洁部件的带清洁功能的搬送部件、以及一种使用了该清洁部件或该带清洁功能的搬送部件的基板处理装置的清洁方法。本发明的清洁部件具有在表面设置有多个柱状结构的凸部的层状部件，其中，该柱状结构的凸部是碳类纳米结构体。
摘要（英）：
A cleaning member that is free from staining at cleaning sites, being capable of simple and easy, unfailing, satisfactory removal of minute foreign matter, preferably foreign matter of submicron level; a delivery member with cleaning function including the cleaning member; and a method of cleaning a substrate processing apparatus with the use of the cleaning member or delivery member with cleaning function. There is provided a cleaning member comprising a layer member furnished on a major surface thereof with multiple protrusions of columnar structure, wherein the protrusions of columnar structure consist of a carbon nanostructure.
公开/授权文献:
- CN101501823A 清洁部件、带清洁功能的搬送部件以及基板处理装置的清洁方法 公开/授权日：2009-08-05
IPC结构图谱:
| H | 电学 |
| --H01 | 基本电气元件 |
| ----H01L | 半导体器件；其他类目未包含的电固体器件 |
| ------H01L21/00 | 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备 |
| --------H01L21/02 | .半导体器件或其部件的制造或处理 |
| ----------H01L21/027 | ..未在H01L21/18或H01L21/34组中包含的为进一步的光刻工艺在半导体之上制作掩膜 |
| ------------H01L21/18 | ...器件有由周期表第Ⅳ族元素或含有/不含有杂质的AⅢBⅤ族化合物构成的半导体，如掺杂材料 |
| --------------H01L21/26 | ....用波或粒子辐射轰击的 |
| ----------------H01L21/302 | .....改变半导体材料的表面物理特性或形状的，例如腐蚀、抛光、切割 |
| ------------------H01L21/304 | ......机械处理，例如研磨、抛光、切割 |