基本信息:
- 专利标题： 沉积修复设备及方法
- 专利标题（英）：Deposition repair apparatus and methods
- 申请号：CN200780017335.2 申请日：2007-05-14
- 公开(公告)号：CN101443788B 公开(公告)日：2014-01-01
- 发明人： 史蒂文·爱德华·比雷尔 , 艾伦·凯布尔 , 乔尔·维斯尔 , 莉迪亚·J·杨 , 郭尚烨 , 周琪姆·阿尔德零 , 托马斯·H·贝利 , 阿尔贝托·匹科 , 雷蒙德·阿耶翁
- 申请人： 光子动力学公司 , 美国海军部
- 申请人地址： 美国加利福尼亚州
- 专利权人： 光子动力学公司,美国海军部
- 当前专利权人： 光子动力学公司,美国海军部
- 当前专利权人地址： 美国加利福尼亚州
- 代理机构： 北京英赛嘉华知识产权代理有限责任公司
- 代理人： 余朦; 王艳春
- 优先权： 60/747,158 2006.05.12 US
- 国际申请： PCT/US2007/068902 2007.05.14
- 国际公布： WO2007/134300 EN 2007.11.22
- 进入国家日期： 2008-11-12
- 主分类号： G06K9/00
- IPC分类号： G06K9/00 ; G02F1/153 ; G02F1/15 ; F21S4/00 ; H05B39/04
摘要：
一种设备，包括：集成检查、材料去除和材料沉积功能。该设备沿着相同光轴执行检查、材料去除和材料沉积的操作。该设备部分地包括：一个照相机、一组透镜，以及一个或多个激光器。第一透镜用于经历检查时在目标基板上形成的结构上使照相机沿着光轴聚焦。如果确认为被检查结构为需要去除材料，则第一透镜还用于将激光束聚焦到该结构上以便去除其上出现的材料。如果确认被检查结构为需要材料沉积，则第二透镜用于将激光束聚焦到色带上以便从色带中形成的凹陷阱中将流变化合物转移到该结构。
公开/授权文献:
- CN101443788A 沉积修复设备及方法 公开/授权日：2009-05-27
IPC结构图谱:
| G | 物理 |
| --G06 | 计算；推算；计数 |
| ----G06K | 数据识别；数据表示；记录载体；记录载体的处理 |
| ------G06K9/00 | 用于阅读或识别印刷或书写字符或者用于识别图形，例如，指纹的方法或装置 |