
基本信息:
- 专利标题: 投影光学系统和图像投影装置
- 专利标题(英):Projection optical system and image projection device
- 申请号:CN200710164879.3 申请日:2007-09-17
- 公开(公告)号:CN101256273A 公开(公告)日:2008-09-03
- 发明人: 安部一成 , 藤田和弘 , 高浦淳
- 申请人: 株式会社理光
- 申请人地址: 日本东京都
- 专利权人: 株式会社理光
- 当前专利权人: 株式会社理光
- 当前专利权人地址: 日本东京都
- 代理机构: 北京市柳沈律师事务所
- 代理人: 钱大勇
- 优先权: 251910/06 2006.09.15 JP; 229442/07 2007.09.04 JP
- 主分类号: G02B17/08
- IPC分类号: G02B17/08 ; G03B21/14
摘要:
提供一种投影光学系统,该投影光学系统包括:配置成形成与第一图像共轭的第二图像的第一光学系统和配置成包括反射来自该第二图像的光的反射光学元件并在投影表面上投影与该第二图像共轭的第三图像的第二光学系统,其中所述第一光学系统具有其符号与所述第二光学系统的佩茨瓦尔和的符号相反的佩茨瓦尔和。
摘要(英):
A projection optical system including a first optical system configured to form a second image conjugate to a first image and a second optical system configured to include a reflective optical element which reflects light from the second image and to project a third image conjugate to the second image onto a projection surface is provided, wherein the first optical system has a Petzval sum with a sign opposite to a sign of a Petzval sum of the second optical system.
公开/授权文献:
- CN101256273B 投影光学系统和图像投影装置 公开/授权日:2011-12-07
IPC结构图谱:
G | 物理 |
--G02 | 光学 |
----G02B | 光学元件、系统或仪器 |
------G02B17/00 | 有或无折射元件的具有反射面的系统 |
--------G02B17/08 | .折反射系统 |