基本信息:
- 专利标题： 含有聚酰胺酸或聚酰亚胺的电极图案形成层、以及使用该电极图案形成层的电子器件
- 专利标题（英）：Electrode patterning layer comprising polyamic acid or polyimide and electronic device using the same
- 申请号：CN200680021793.9 申请日：2006-06-19
- 公开(公告)号：CN101199041A 公开(公告)日：2008-06-11
- 发明人： 前田真一 , 小野豪
- 申请人： 日产化学工业株式会社
- 申请人地址： 日本东京
- 专利权人： 日产化学工业株式会社
- 当前专利权人： 日产化学工业株式会社
- 当前专利权人地址： 日本东京
- 代理机构： 上海专利商标事务所有限公司
- 代理人： 徐迅
- 优先权： 179210/2005 2005.06.20 JP; 258620/2005 2005.09.07 JP
- 国际申请： PCT/JP2006/312260 2006.06.19
- 国际公布： WO2006/137366 JA 2006.12.28
- 进入国家日期： 2007-12-17
- 主分类号： H01L21/28
- IPC分类号： H01L21/28 ; C08G73/10 ; H01L21/288 ; H01L21/3205 ; H01L21/336 ; H01L29/786 ; H01L51/05 ; H01L51/30 ; H01L51/40
摘要：
本发明提供用于根据电极形成液的润湿性的不同来制作任意形状的电极图案的电极图案形成层，它采用了作为电子材料的可靠性高的聚酰亚胺类树脂。用于根据电极形成液的润湿性的不同来制作任意形状的电极图案的电极图案形成层，通过在含有具有上述通式(1)表示的重复单元的聚酰胺酸或该聚酰胺酸脱水闭环得到的聚酰亚胺的层上，以图案状照射紫外线而制得，式(1)中，A表示4价的有机基团，B表示2价的有机基团，A和B分别可以是1种或多种，n为正整数，但是，A的至少1种为具有脂环结构的4价有机基团。
公开/授权文献:
- CN101199041B 电极图案形成层及其制造方法、图案电极、电子器件和有机FET 公开/授权日：2010-05-19
IPC结构图谱:
| H | 电学 |
| --H01 | 基本电气元件 |
| ----H01L | 半导体器件；其他类目未包含的电固体器件 |
| ------H01L21/00 | 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备 |
| --------H01L21/02 | .半导体器件或其部件的制造或处理 |
| ----------H01L21/027 | ..未在H01L21/18或H01L21/34组中包含的为进一步的光刻工艺在半导体之上制作掩膜 |
| ------------H01L21/18 | ...器件有由周期表第Ⅳ族元素或含有/不含有杂质的AⅢBⅤ族化合物构成的半导体，如掺杂材料 |
| --------------H01L21/28 | ....用H01L21/20至H01L21/268各组不包含的方法或设备在半导体材料上制造电极的 |