基本信息:
- 专利标题： 等离子导引机构及应用该导引机构的等离子放电装置
- 专利标题（英）：Plasma guiding mechanism and plasma discharging device of using the mechanism
- 申请号：CN200610149604.8 申请日：2006-10-10
- 公开(公告)号：CN101163370A 公开(公告)日：2008-04-16
- 发明人： 洪昭南 , 徐逸明 , 梁国超 , 王俊尧 , 李志勇 , 王亮钧 , 陈俊钦 , 陈彦政
- 申请人： 馗鼎奈米科技股份有限公司
- 申请人地址： 中国台湾台南县永康市亚太工业区中正路279巷21弄59号
- 专利权人： 馗鼎奈米科技股份有限公司
- 当前专利权人： 馗鼎奈米科技股份有限公司
- 当前专利权人地址： 中国台湾台南县永康市亚太工业区中正路279巷21弄59号
- 代理机构： 北京律诚同业知识产权代理有限公司
- 代理人： 徐金国; 梁挥
- 主分类号： H05H1/34
- IPC分类号： H05H1/34
The present invention discloses a plasma guidance mechanism and a plasma discharge device which applies the guidance mechanism; the plasma guidance mechanism comprises a hull which is fit over the plasma discharge device and with the hull, the plasma discharge device is defined with a first cavity and a second cavity; the plasma discharge device produces ions in the first cavity through arc discharge; the first and the second cavities are communicated and the side wall of the second cavity is equipped with long narrow holes which are used for guiding the plasma to be sprayed out of the hull from the long narrow holes. Therefore, the present invention of the plasma guidance mechanism is characterized in that the mechanism can increase the plasma spraying area of the plasma discharge device and prolong the service life and provide various plasma spraying angles.
IPC结构图谱:
| H | 电学 |
| --H05 | 其他类目不包含的电技术 |
| ----H05H | 等离子体技术（离子束管入H01J27/00；磁流体发电机入H02K44/08；涉及生成等离子体的产生X射线的入H05G2/00）；加速的带电粒子或中子的产生（从放射源获取中子的入G21，例如：G21B，G21C，G21G）；中性分子或原子射束的产生或加速 |
| ------H05H1/00 | 等离子体的产生；等离子体的处理 |
| --------H05H1/02 | .用电场或磁场约束等离子体的装置；加热等离子体的装置 |
| ----------H05H1/26 | ..等离子体喷管 |
| ------------H05H1/32 | ...应用电弧的 |
| --------------H05H1/34 | ....零部件，例如电极、喷嘴 |