基本信息:
- 专利标题： 含有铜特异的防腐剂、用于清洗半导体衬底上的无机残余物的水性清洗组合物
- 专利标题（英）：Aqueous cleaning composition containing copper-specific corrosion inhibitor for cleaning inorganic residues on semiconductor substrate
- 申请号：CN200710147183.X 申请日：2002-03-27
- 公开(公告)号：CN101134930A 公开(公告)日：2008-03-05
- 发明人： 威廉·A·沃伊特恰克 , 戴维·伯恩哈德 , 法蒂玛·Ma·塞约 , 朗·源
- 申请人： 高级技术材料公司
- 申请人地址： 美国康涅狄格州
- 专利权人： 高级技术材料公司
- 当前专利权人： 恩特格里斯公司
- 当前专利权人地址： 美国康涅狄格州
- 代理机构： 中原信达知识产权代理有限责任公司
- 代理人： 杨青; 樊卫民
- 优先权： 09/818,073 2001.03.27 US
- 分案原申请号： 028072367
- 主分类号： C11D7/32
- IPC分类号： C11D7/32 ; C09K13/06 ; C23F1/18
摘要：
半导体晶片清洗剂，含有1－21重量％氟化物源，20－55重量％有机胺，0.5－40重量％含氮成分如含氮羧酸或亚胺，23－50重量％水，以及0－21重量％金属螯合剂。该清洗剂用于从抗蚀剂的等离子体灰化步骤后的晶片上除去残余物，例如从含有精细的铜互连结构的半导体晶片上除去无机残余物。
公开/授权文献:
- CN101134930B 含有铜特异的防腐剂、用于清洗半导体衬底上的无机残余物的水性清洗组合物 公开/授权日：2011-04-13
IPC结构图谱:
| C | 化学；冶金 |
| --C11 | 动物或植物油、脂、脂肪物质或蜡；由此制取的脂肪酸；洗涤剂；蜡烛 |
| ----C11D | 洗涤剂组合物；用单一物质作为洗涤剂；皂或制皂；树脂皂；甘油的回收 |
| ------C11D7/00 | 主要以非表面活性化合物为基料的洗涤剂组合物 |
| --------C11D7/02 | .无机化合物 |
| ----------C11D7/32 | ..含氮的 |