基本信息:
- 专利标题： 形成抗眩光层的方法、抗眩光膜和其制造方法以及用于形成抗眩光层的油墨喷射装置
- 专利标题（英）：Method for forming anti-glare layer and anti-glare film, and ink-jet apparatus for forming anti-glare layer
- 申请号：CN200710101860.4 申请日：2003-10-29
- 公开(公告)号：CN101109826A 公开(公告)日：2008-01-23
- 发明人： 村上隆 , 川上壮太
- 申请人： 柯尼卡美能达控股株式会社
- 申请人地址： 日本东京都
- 专利权人： 柯尼卡美能达控股株式会社
- 当前专利权人： 柯尼卡美能达控股株式会社
- 当前专利权人地址： 日本东京都
- 代理机构： 北京市柳沈律师事务所
- 代理人： 张平元
- 优先权： 319665/02 2002.11.01 JP
- 分案原申请号： 2003101026890
- 主分类号： G02B1/11
- IPC分类号： G02B1/11 ; B41J2/01
摘要：
本发明涉及一种形成抗眩光层的方法，该方法包括下列步骤：用喷墨装置将油墨液滴喷射到透明基材上以在透明基材上形成细观凹凸结构；其中油墨包含能够赋予透明基材抗眩光性的组分。本发明还涉及一种抗眩光膜和其制造方法以及用于形成抗眩光层的油墨喷射装置。
公开/授权文献:
- CN101109826B 形成抗眩光层的方法、抗眩光膜和其制造方法以及用于形成抗眩光层的油墨喷射装置 公开/授权日：2010-10-13
IPC结构图谱:
| G | 物理 |
| --G02 | 光学 |
| ----G02B | 光学元件、系统或仪器 |
| ------G02B1/00 | 按制造材料区分的光学元件；用于光学元件的光学涂层 |
| --------G02B1/10 | .对光学元件表面涂覆或对它进行表面处理后所产生的光学涂层 |
| ----------G02B1/11 | ..抗反射涂层 |