基本信息:
- 专利标题： 基板处理装置
- 专利标题（英）：Substrate processing device
- 申请号：CN200710160567.5 申请日：2007-12-25
- 公开(公告)号：CN100594584C 公开(公告)日：2010-03-17
- 发明人： 稻益寿史 , 太田义治 , 池田文彦 , 山崎刚 , 大塚庆崇
- 申请人： 东京毅力科创株式会社
- 申请人地址： 日本东京都
- 专利权人： 东京毅力科创株式会社
- 当前专利权人： 东京毅力科创株式会社
- 当前专利权人地址： 日本东京都
- 代理机构： 北京尚诚知识产权代理有限公司
- 代理人： 龙淳
- 优先权： 2006-351688 2006.12.27 JP
- 主分类号： H01L21/00
- IPC分类号： H01L21/00 ; H01L21/677 ; B65G49/00 ; B65G49/06
摘要：
本发明提供一种浮起搬送式的基板处理装置。从搬送方向(X方向)看，在台(80)的左右两侧沿搬送方向分别以成一列的方式以一定间距配置有多个滚轮或侧面滚轮(110)。在台(80)上，基板(G)利用从正下方(台上面)的喷出口(100)获得的气体的压力浮在空中，同时其左右两侧端部搭载在台两侧的侧面滚轮(110)的上面。通过侧面滚轮(110)的旋转运动，在台(80)上浮起的基板(G)在侧面滚轮(110)上辗转传送并向搬送方向(X方向)平流移动。
摘要（英）：
The present invention provides a floatable conveying type substrate handling device. Looking in conveying direction (X direction), setting a plurality of rollers or profile rollers (110) with certaindistance in a line along conveying direction on two sides of a platform (80). On the platform (80), the basal plate (G) floats in the air using the pressure of gas obtained from the just subjacent ejecting mouth (100) on the platform, and the two ends of the two sides are loaded on the top of the profile roller (110). By means of the rotation motion of the profile roller (110), the basal plate (G)floated on the platform (80) is tossing to convey on the profile rollers (110) and moves towards conveying direction (X direction) in advection mode.
公开/授权文献:
- CN101211756A 基板处理装置 公开/授权日：2008-07-02
IPC结构图谱:
| H | 电学 |
| --H01 | 基本电气元件 |
| ----H01L | 半导体器件；其他类目未包含的电固体器件 |
| ------H01L21/00 | 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备 |