基本信息:
- 专利标题： 具有多个绕组线圈的感应等离子处理器和控制等离子浓度的方法
- 专利标题（英）：Inductive plasma processor having coil with plural windings and method of controlling plasma density
- 申请号：CN02809353.4 申请日：2002-03-29
- 公开(公告)号：CN100565775C 公开(公告)日：2009-12-02
- 发明人： J·J·陈 , R·G·费尔托普 , T·E·威克
- 申请人： 拉姆研究有限公司
- 申请人地址： 美国加利福尼亚州
- 专利权人： 拉姆研究有限公司
- 当前专利权人： 拉姆研究有限公司
- 当前专利权人地址： 美国加利福尼亚州
- 代理机构： 上海专利商标事务所有限公司
- 代理人： 李玲
- 优先权： 09/821,027 2001.03.30 US
- 国际申请： PCT/US2002/009565 2002.03.29
- 国际公布： WO2002/080221 EN 2002.10.10
- 进入国家日期： 2003-11-03
- 主分类号： H01J37/32
- IPC分类号： H01J37/32
摘要：
感应的等离子处理器包括多个绕组射频线圈，该线圈有多个电并联、空间上同轴的绕组(1)有不同数量的射频电源供应给它们，和(2)排列以产生电磁场，该电磁场对室中等离子不同区域有不同的耦合，以控制投射到已处理工件上的等离子流分布。线圈由单独的射频发生器经单独的匹配网络供给能源。每个绕组的输入和输出端分别连接到输入和输出调谐电容量。在第一实现例中，把射频耦合到等离子体的最大感应位置和每个绕组中的电流幅度分别主要由输出和输入电容的值确定。通过同时调整所有输入和输出电容，一个绕组中的电流可以改变而其它绕组中的电流可以保持恒定，好象这些绕组是完全去耦和独立的。所以，这些电容可以控制不同径向和角向区域的等离子浓度。在另一实现例中，相对低的频率驱动该线圈，因此，每个绕组有相对短的电长度，产生基本上是小的驻波电流和电压改变。每个绕组的输出电容调整电流幅度，来消除对输入电容的需要，并降低操作的复杂性。
公开/授权文献:
- CN1507646A 具有多个绕组线圈的感应等离子处理器和控制等离子浓度的方法 公开/授权日：2004-06-23