基本信息:
- 专利标题： 光刻系统
- 专利标题（英）：Lithography system
- 申请号：CN200380104096.6 申请日：2003-10-24
- 公开(公告)号：CN100524026C 公开(公告)日：2009-08-05
- 发明人： 马尔科·扬-哈科·威兰 , 约翰尼斯·克里斯蒂安·万特斯皮扎科 , 雷梅科·扎格 , 彼得·克瑞特
- 申请人： 迈普尔平版印刷IP有限公司
- 申请人地址： 荷兰代尔夫特
- 专利权人： 迈普尔平版印刷IP有限公司
- 当前专利权人： ASML荷兰有限公司
- 当前专利权人地址： 荷兰代尔夫特
- 代理机构： 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所
- 代理人： 付建军
- 优先权： 60/421,464 2002.10.25 US
- 国际申请： PCT/NL2003/000725 2003.10.24
- 国际公布： WO2004/038509 EN 2004.05.06
- 进入国家日期： 2005-05-25
- 主分类号： G03F7/20
- IPC分类号： G03F7/20 ; H01J37/317
摘要：
本发明涉及一种用于将图形转移到目标的表面上的无掩模光刻系统，包括产生多个小射束的至少一个束发生器、包括调制小射束的幅值的多个调制器的调制装置和控制每个调制器的控制单元，其中控制单元产生图形数据并将其传送给所说的调制装置以控制每个单个小射束的幅值，该控制单元包括存储图形数据的至少一个数据存储装置、从数据存储装置读出图形数据的至少一个读出单元、将从数据存储装置中读出的图形数据转换为至少一个调制的光束的至少一个数据转换器和将所说的至少一个调制的光束发送给所说的调制装置的至少一个光发送器。
公开/授权文献:
- CN1717631A 光刻系统 公开/授权日：2006-01-04