基本信息:
- 专利标题： 蚀刻金属层的组合物以及使用其形成金属图案的方法
- 专利标题（英）：Composition for etching metal layer and method for forming metal pattern by using same
- 申请号：CN200510114837.X 申请日：2005-11-17
- 公开(公告)号：CN100510187C 公开(公告)日：2009-07-08
- 发明人： 金钟一 , 李坰默 , 宋桂燦 , 曹三永 , 申贤哲 , 金南绪 , 李骐范
- 申请人： 乐金显示有限公司 , 东进世美肯株式会社
- 申请人地址： 韩国首尔
- 专利权人： 乐金显示有限公司,东进世美肯株式会社
- 当前专利权人： 乐金显示有限公司
- 当前专利权人地址： 韩国首尔
- 代理机构： 北京律诚同业知识产权代理有限公司
- 代理人： 徐金国; 祁建国
- 主分类号： C23F1/16
- IPC分类号： C23F1/16 ; G02F1/136
摘要：
本发明公开了一种用于蚀刻金属层的组合物，该组合物包括：重量比为大约55%到大约80%的磷酸；重量比为大约3%到大约15%的硝酸；重量比为大约5%到大约20%的乙酸；重量比为大约0.5%到大约10%的磷酸盐；重量比为大约0.1%到大约5%的含氯化合物；重量比为大约0.01%到大约4%的偶氮化合物；以及水。
公开/授权文献:
- CN1966772A 蚀刻金属层的组合物以及使用其形成金属图案的方法 公开/授权日：2007-05-23